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広領域 SEM/EBSD 法の確立

山本康晶1), 柴田昌照1) , 川内一晃1) ,小倉一道1) , 新船幸二2)
1)日本電子株式会社SM事業ユニット, 2)兵庫県立大学

SEM/EBSD 法は材料の結晶方位解析に必要不可欠なツールとして様々な分野で使用されています。しかしながら一般的にSEM/EBSD の測定領域は約百倍~数万倍で有効であり、百倍以下の低倍率での測定は画像歪の影響が大きく困難でした。このため、太陽電池用ポリシリコンなど100µm 以上の大きな結晶粒で構成される試料では、数百倍での SEM/EBSD 法による結果をつなぎ合わせて広領域をカバーしていました。
今回、我々は低倍率で走査歪の影響が少ない光学系を搭載した JSM-7001F/TTL(Through The Lens) を開発しました。この装置を用いて、結晶粒径が大きい試料の極低倍率 EBSD 測定を行ないましたので、Result にその結果を示します。
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