2017/05/08

弊社は、「VACUUM2017真空展」に、高機能光学薄膜の成膜に最適な電子銃・電源、プラズマソースを出展いたします。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。

主催:日本真空工業会、一般社団法人日本真空学会
公式サイト

開催日/会場

  • 日程:
    2017年9月6日(水)~9月8日(金)
  • 会場:
    パシフィコ横浜 地図
    〒220-0012 横浜市西区みなとみらい1-1-1 
    みなとみらい線「みなとみらい駅」より徒歩 3分
    JR線・市営地下鉄「桜木町駅」より徒歩 12分、
    バスで 7分、タクシーで 5分
    「横浜駅」よりタクシーで 7分、 シーバス(船)で 10分
  • ブースNo.:
    V-103

展示内容

ボンバード蒸着源 BS-60310BDS

低ダメージ、低欠陥、低融点材蒸着用途向けに開発した、電子ビーム間接加熱式蒸発源です。
従来の電子銃と比較して、基板へのX線影響、反射電子影響が、大幅に低減されています。
有機EL用電極膜の蒸着に適しています。
電子ビームによる間接加熱方式を採用する事により、蒸着材料の急激な温度上昇が抑えられる為、スプラッシュの発生が従来の電子銃と比較して、大幅に抑制され、低欠陥MgF2光学膜、撥油・撥水膜の蒸着に適しています。
リボルバ式蒸着材料交換機構により、多層蒸着や厚膜蒸着も可能です。

ボンバード蒸着源 BS-60310BDS

電子銃 BS-60070DEBS / BS-60060DEB

酸化物蒸着に有効です。安定した成膜ができます。
JEBG-102UH0 電子銃と形状互換です。
従来よりフィラメント寿命がさらに長寿命化しました。
クリーニングしやすい形状で、メンテナンス性が良好です。

金属電子銃 BS-62011DEM

金属電子銃 BS-62011DEM

低温プロセス用途に適した金属蒸着用電子銃です。
リフトオフプロセスにおける電極膜形成用途の真空蒸着に最適です。
高効率の反射電子トラップと水冷ルツボカバーを標準搭載し、金属のハイレート蒸着時の基板温度上昇の低減が可能です。
蒸着時の基板への反射電子入射量と基板温度上昇を低減する事により、基板や下地層のダメージの抑制が可能です。

金属電子銃 BS-62011DEM

プラズマソース BS-80020CPPS

低温プロセス用のプラズマソースです。
プラスチックや有機フィルムへの成膜用途(プラズマアシスト蒸着)や表面改質用途に適しています。
無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます。
基板近傍のイオンアシスト効果も付加され、さらに蒸着材料によってはARE(活性化反応蒸着)効果が期待できます。
既設の真空チャンバーへ後付けすることもできます。

プラズマソース BS-80020CPPS

JCM-6000Plus NeoScope™ ネオスコープ 卓上走査電子顕微鏡

機能豊富な卓上SEMです。
新感覚の操作画面とタッチパネルで直観的操作を実現しました。
高真空/低真空モードが標準です。
測長機能も標準搭載です。
傾斜回転モーター駆動ホルダーが装着可能です(オプション)
EDS(元素分析装置)が装着可能です(オプション)

JCM-6000Plus BS-60310BDS

お問合せ

  • 日本電子株式会社
    産業機器営業部
    TEL: 03-6262-3570
    FAX: 03-6262-3577