JEOL Nano Fabrication System

JEOLの高分解能サーマルFE SEM JSM-7000Fに、Beam Draw を搭載することにより、高安定、高精度の電子線描画装置が実現しました。
SEMの汎用性に電子線描画機能を備えたJSM-7000FとBeam Drawのコンバインシステムは、電子線描画に対する研究者の方々の多様なニーズに応えることが可能になっています。

特長

High Power Opticsにより、電子線描画で使用される照射電流領域
数pA～数nAで3nmの高分解能を実現
照射電流安定度＜1％/hrを実現
SEMの観察機能を生かして、描画結果をそのままSEM観察することが可能です。
EDS、WDS、EBSDといった分析装置との併設が可能になります。（EBSDはSEM Stage使用）
ステージはSEMステージ、描画専用精密ステージ、レーザー干渉計付きステージの3種類から選択可能な構成になっています。装置の使用目的に合わせて、装置構成を選択することが可能です。
既納のFE-SEM JSM-6500F、JSM-7000F、JSM- 6700F またタングステンSEM JSM-6360、JSM-6460へのレトロフィットが可能です。