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本装置は、照射系,排気系,信号処理系の改良による高画質観察に加え、タッチパネル操作、高速ステージによるハイスループットで感覚的操作が可能な走査電子顕微鏡です。

特長

機能追求

高品位な画質

電子光学系の改良により、これまで以上の高画質を実現しました。

帯電対策
新スキャン方式により帯電しやすい試料をより良い条件で撮影することができます。
低真空モード(LV)
真空度は10 Pa ~ 650 Pa。 これによりアプリケーションの幅が拡がりました。

視野探し
ステージスピードの適正化により低倍率での高速視野移動、高倍率での視野微調整がよりスムーズになりました。また、ステージナビゲーションシステム( オプション) を組み合わせることにより、大形試料室でも視野探しが容易です。
分析
大電流モードにより、1 μA の大電流がとれます( 加速電圧20kV 以上) 。ズームコンデンサーレンズにより観察・分析で照射電流を切り替えても視野ずれが最小限に抑えられます。 ステージR により検出器の方向に合わせてサンプルの向きを変更することが容易になります。

拡張性満開

大形試料室搭載
最大8 inch φ× 80 mm Height の試料を挿入することのできる大型試料室になっています。
最大積載量2 kg も魅力です。
マルチパーパスチャンバー

アタッチメントポート位置の設計が最適化されたことにより、EDS/WDS/EBSD の同時装着が可能です。
EDS/EBSDは同一方向に装着できます。また、対向型EDSも装着できるようになりました。
高速ステージ移動
新開発のモーターステージにより高速ステージ移動が可能になりました 。( 当社比1.5 倍)
5 軸モーターステージ標準
ユーセントリックTilt、ユーセントリックRotationも標準搭載しています。 これにより、試料傾斜時、回転時に、観察している視野中心が動きません。 また、試料高さ入力により試料と検出器の接触を防ぎます。
真空排気スピード向上
排気方法の改良により、大型試料室でも真空排気をより早く行うことができるように なりました。( 当社比1.4 倍)

操作性探求

タッチ対応インターフェース
新規ユーザーインターフェースにより操作性が更に快適になりました。もちろんタッチ操作対応です。
ユーザーインターフェースのサイズ変更も可能です。分析をしながら、データー整理をしながら・・・作業領域を選べます。

マルチユーザー/ マルチタスク
ユーザー登録により、複数ユーザーのカスタマイズされた快適な操作環境を保てます。
マルチランゲージ対応
ユーザーインターフェースの日本語/ 英語表示切り替えがアイコンから行えます。 状況に合わせてその場で言語を選べます。

仕様・オプション

分解能 高真空モード 3.0 nm (30 kV) 15.0 nm(1.0 kV)
低真空モード 4.0 nm (30 kV BED)
倍率 ×5 ~ ×300,000
プリセット倍率 6段階(ユーザー設定可)
電子銃 W フィラメント
完全自動、手動調整可能
加速電圧 0.3kV ~ 30kV
フィラメント ファクトリープリセンター形
照射電流 1 pA ~ 1 μA
低真空圧力設定範囲※1 10 ~ 650 Pa
コンデンサーレンズ 高精度ズーム形
対物レンズ コニカル形
対物レンズ絞り 3段 XY 微調整機能付き
非点メモリー あり(WD10 mm)
自動機能 フォーカス、明るさ/ コントラスト、非点補正
試料交換 試料室ドアを開けて交換
最大試料寸法 200 mm 径 80 mm 高(WD10 mm)
試料ステージ 大形ユーセントリック式
X:125 mm Y:100 mm Z:80 mm
傾斜:-10 ~ 90° 回転:360°
標準レシピ あり
画像モード 二次電子像、REF 像、組成像、凹凸像、立体像
比較画面(スナップショット) 6枚(保存、呼び出し、撮影条件再現可能)
OS Windows®7
観察モニター 23型タッチパネル
(ディスプレー解像度1,920 x 1,080)
画素数 640 x 480 1,280 x 960 2,560 x 1,920 5,120 x 3,840
画像表示切替え あり
(2 画面表示、全画面表示、信号加算表示)
デジタル画像調整 あり(ガンマ補正、疑似カラー)
ヒストグラム表示 あり
計測機能 あり
(2 点間距離、平行線間隔、角度、直径等)
3D計測用画像作成 あり※2
アナグリフ画像作成 あり
画像編集ソフト SMile View™
言語切換 UI 上で可能(日本語・英語)
画像フォーマット BMP、TIFF、JPEG
画像自動保存 あり
排気系 完全自動 TMP:1台 
RP:1台または2台※1
真空モード切換 操作画面上で切り替え可能
  • Windows は、米国 Microsoft Corporation の、米国およびその他の国における登録商標または商標です。

主なオプション

反射電子検出器 ※1
低真空二次電子検出器
エネルギー分散型X 線分析装置(EDS)
波長分散型X 線分析装置(WDS)
後方散乱電子回折検出器(EBSD)
ロードロックチャンバー(予備交換室)
ステージナビゲーションシステム
チャンバースコープ
オペレーションパネル
LaB6 電子銃
3D 計測ソフト※2
操作テーブル

  • LV/LA のみ標準

  • 計測には専用ソフトウェアが必要です。

  • 外観・仕様は予告なく変更することがあります。

アプリケーション

JSM-IT300に関するアプリケーション

ギャラリー

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