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Model 681 イオンビームコーターIBC

販売終了

Model 681 イオンビームコーターIBC

IBCは従来のコーティング(加熱蒸着、アーク二極放電、マグネトロンまたはRFスパッタリングなど)方法に代わる集束イオンビーム法による薄膜コーティング装置です。TEM、SEM用試料の表面に非晶質の薄膜を生成するために設計された、卓上型集束イオンビームコーターです。

特長

真空計 オイルフリー

ダイヤフラムポンプとターボを使用して 真空を上げてるので、オイルフリー

試料ホルダ

ロッキングアングル 0℃~90℃
ロッキングスピード 0℃~36℃/Sec

TEM用の試料を装着する為のホルダ付

膜厚計付

ターゲット 4種取付可能
カーボン/クロム/白金/白金パラジウム

仕様・オプション

電子銃
イオン源 ペニングイオン銃(PIG™) 2式
イオンエネルギー 1~10kV
ガス アルゴンガス 0.1mL/min/ガン
(他の不活性ガス使用可)
ビーム径 約1mm
イオン電流密度 最大10mA/cm2
真空系
オイルフリーポンプ 2段ダイヤフラムポンプと60L/sモキュレラドラックポンプ
試料室エアロック ウイスパーロック
試料交換時間 30S以下、ガタン
真空度
ベース真空度 6.6×10-4Pa
使用真空度 8×10-3Pa
真空計 ペニングタイプ/試料室、ソリードステート検出器/背圧
液体窒素トラップ 最大10時間使用可能(オプション)
コーティング
コーティングレート
カーボン(C) 約0.05nm/s
クロム(Cr) 約0.15nm/s(at 10kV)
試料ホルダ 水平プラットホーム(通常SEM用15mmφ試料載台装着可)
試料回転 360°(0~8rpm)
試料傾斜 ロッキング動作 最大90°または固定角度
ターゲットホルダ 2つのターゲットを真空中に交互に交換可
待機中のターゲットはスパッタによるコンタミネーションから完全に遮蔽されています。
使用ターゲット カーボン(C)/クロム(Cr) (標準)
カーボン、クロム、白金、金-パラジューム、インジューム、タンタル、タングステンが供給可能です。
第2ターゲットアッセンブリー(オプション)
膜厚モニタ 水晶膜厚モニタ(オプション)
オプション TEM用のサイドエントリー TEMアダプタ
寸法とユーティリティ
外形寸法 560mm(幅)×480mm(奥行)×430mm(高さ)
質量 38kg
電源 275W 100AVC(100~280 VAC可) 50/60Hz
ガス アルゴン 純度99.998%以上、0.482MPa(70psi)

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