TEM、SEMのための化学薬品を使わないコンパクトなイオンビームによるエッチングシステムです。
特長
広域で均一なエッチングおよびコーティングが可能です。
オイルフリーのクリーンな環境で試料処理が行えます。
サイドエントリー形TEM用試料ホルダも装着できます。
半導体関連の試料に特に威力を発揮
高域（約10mmφ）での均一なエッチング・コーティング
プラグ断面構造の剖出
薬品による危険性からの解放
試料処理時の汚染からの解放
仕様・オプション
| イオン源 | ペニング銃 3 式 |
|---|---|
| イオンエネルギー | 1kV-10kV |
| ガス | アルゴンガス 0.1ml/分/ガン |
| ビーム径 | エッチング 最大 5mm(回転で約 10mm)、コーティング 最大 1mm |
| イオン電流密度 | 10mA/cm2 イオン源当たり |
| ドライポンプ | 60l/sec 分子ドラッグポンプ、2 段ダイアフラムポンプ |
| 真空度 | ベース真空度 6.6×10-4Pa、 使用真空度 8×10-3Pa |
| 真空計 | 冷陰極タイプ ： 試料室 ソリッドステート検出器 ・ 背圧 |
| 試料室エアーロック | 試料交換時間 30 秒以下、ガタン ウイスパーロック |
| コーティング速度 | カーボン ： 約 0.05nm/秒、クローム ： 約 0.15nm/秒 （於 10kV） |
| エッチング速度 | 約 3μm/時 （於 タングステン 10kV） |
| 試料ホルダー | 水平プラットホーム、直径 36mm 試料搭載可能 |
| 試料回転 | 360° （10-60RPM） |
| 傾斜試料 | 固定角度 又はロッキング動作 ±45° |
| ターゲットホルダー | ダブルフリップフロップターゲットセット 2 個（ユニットが真空の時、外部から選択可能）
使っていないターゲットはスパッタによるコンタミネーションから完全に遮蔽されています。 |
| ターゲットマテリアル | 標準 ： 炭素/クロム、金-パラジューム/タングステン 及び、炭素、クロム白金、金-パラジューム、金、イリジューム、タンタル、タングステンなどのターゲットが供給可能です。 |
| 電源 | 200W 100、120、230VAC 50/60Hz |
| 外形寸法 | 560mm(W)×480mm(D)×430mm(H)、平均出荷重量 38kg |
| ガス | アルゴン、70 psi |
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