加速電圧100kV、直径2.1nmのビームを自動調整する電子光学系により、8nm以下（実績5nm）のパターンが簡単に描画できます。
更に、9nm以下のフィールド接合精度、重ね合わせ精度を実現したコストパフォーマンスに優れた描画装置です。
特長
最小ビーム径≦2.9nmによる8nm以下(実績5nm)の超微細パターンの描画が可能です。弊社独自のDF/DSシステムによりビーム偏向時の偏向歪補正、像面弯曲収差補正、非点収差補正が可能になり、フィールドコーナー、境界部での超高精度描画が可能です。
19bit DAC、ステージ制御精度0.6nmのレーザー干渉計により業界最高レベルの位置精度、繋ぎ・重ね合わせ精度（±9nm）を実現しました。 フォトニックデバイス、通信デバイスなどの高位置精度を求めるような分野での研究・開発に使用可能です。
弊社独自のオートキャリブレーション機能(自動補正機能)により、長時間描画において信頼のおける安定性を実現します。自動補正のタイミングは、任意の時間、各フィールドごとや、パターンごとに設定が可能です。週末や連休を跨ぐ様なオペレーター不在の長時間描画において非常に有効です。
最大走査速度５０ＭＨｚに加えマシンオーバーヘッドタイムを極力抑えて描画時間短縮を実現しました。描画開始までの作業も非常にシンプルであり、フォーカス合わせも自動で行われるためトータルスループットの向上が見込めます。
オートローダ（オプション）を採用すれば試料ホルダー最大１０枚の連続描画も可能です。（例：6インチウエハ１０枚連続描画や2インチウエハ４０枚連続など。※連続には材料枚数分のサンプルホルダーが必要になります。）、国内外で生産ラインの導入実績もございます。
ファインピッチコントロールプログラム（フィールドサイズ微小変調プログラム）を用いることでＤＦＢレーザーなどのチャープト周期回折格子の制作が可能です。
仕様・オプション
| 電子銃 | ZrO/Wショットキー型 |
|---|---|
| 描画方式 | スポットビーム、ベクタースキャン、ステップ＆リピート |
| 加速電圧 | 25kV(オプション)、50kV、100kV |
| 試料サイズ | 最大200mmφウエハーまで、5型マスク、６型マスクや任意のサイズの微小サンプル片も装填可能です。 |
| 最大フィールドサイズ | 2000μmＸ2000μm |
| ステージ移動範囲 | 190mmX170mm |
| 重ね合わせ精度 | ±9nm以内 |
| フィールド接合精度 | ±9nm以内 |
| 走査速度 | 最大50MHz |
アプリケーション
JBX-6300FSに関するアプリケーション
電子ビーム描画装置JBX-3200MV/JBX-3050MV/JBX-9500FS/JBX-6300FS
