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精密イオンポリシングシステム
PIPS™Ⅱ(Gatan社製)

精密イオンポリシングシステムPIPS™Ⅱ (Gatan社製)

スタンダードモデルとして愛用されたPIPS™の基本性能及び操作性を画期的に向上させた新タイプの装置です。
日常的な材料から、最先端材料まであらゆる状況で最高の試料作製を可能にし、操作はタッチパネルによるGUI方式を採用し、レシピ機能等も搭載され驚くほど迅速・容易に行えます。

特長

10インチのタッチパネル式 『GUI』 ※

シンプルで使いやすいインターフェース
ベーシックユーザからハイレベルユーザまで満足
レシピ設定機能付き
最適レベルのパラメータの測定・モニタリング・設定結果を表示
補正及びビームアライメントをアシスト
性能のモニタリング及び保守の為のマシン・ログを作成

  • GUI=グラフィックユーザーインターフェース

改良されたガンの性能

低エネルギー性能が画期的に向上
高エネルギー性能エンベロープ拡大
高精度な試料作製による良好なTEMデータ取得が可能

新しいX、Yステージ

試料上の重要点を、回転・イオンビームの中心に設定できる
PIPS™IIカメラと関連付けた、非常に簡単なアライメント調整

冷却ステージ

大容量デュアを採用し長時間の冷却加工が可能
-120℃まで冷却可能

DigitalMicrograph® デジタルズームカメラ

5メガピクセルデジタルカメラ
LED照明(2色)
DM取得、PCとPIPS™IIのリンク
完全プログラム化可能-GUIまたはPCから-
DigitalMicrograph® に保存された画像(1画像 / 回転画像)

仕様・オプション

イオン源
イオン銃 低エネルギー集束電極 ペニング形イオン銃2式
ミリングアングル -10°~+10° 調整可能
イオンエネルギー 100 eV ~8 keV
イオン電流密度 1イオン銃あたり 10 mA/cm2
ビーム軸合わせ 蛍光板を用いた精密なビームアライメント
ビーム調整 ガス流量か放電電圧にて調整
試料室
試料サイズ 3 mm
試料回転 1~6 rpm まで可変
試料取り付け 片面ポリシング用試料台/両面ポリシング用試料台
X,Y可動範囲 ±0.5 mm
試料観察 双眼顕微鏡、デジタルズームマイクロスコープ(オプション)
真空系
ドライポンプシステム 2ステージダイヤフラムポンプ (背圧) 80 L/秒
到達圧力 到達圧力6.6×10-4Pa、動作圧力1×10-3Pa
真空計 試料室:冷陰極タイプ
試料交換 Whisperlok® エアロック方式 (所要試料交換時間:1分以下)
外観など
寸法/重量 495 mm (W) × 547 mm (D) × 615 mm (H) 45kg
電源 /使用電力 単相AC 100 V、50/60 Hz、200 W
ガス アルゴンガス:G1 (99.9999%) 推奨 設定圧力:0.15 MPa

液体窒素冷却ステージの仕様

冷却源 液体窒素
デュアーの容量 336mL
デュアーの保持時間 約6~7時間
コントローラ 設定温度をGUI操作・表示
ヒーター1 ステージの温度調整用 (-120°C~+25°C)
ヒーター2 冷却したステージを室温戻し用
温度検出 シリコンダイオード
温度領域 -120°C~室温
試料冷却 -120°Cまで可能
  • 「DigitalMicrograph®」「Whisperlok®」は(米)Gatan社の製品です。

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