JBX-3050MV電子ビーム描画装置

45nm～32nm ノードマスク・レチクル制作用可変成形電子ビーム描画装置です。
最先端技術で高速、高精度、高信頼性を実現しています。
加速電圧50 kVの可変成形ビームとステップ＆リピートステージ方式を基本とした描画装置です｡

特長

ステップ & リピート描画方式のメリットを生かし、描画ドーズ量変調機能、重ね描画機能等を組み合わせることにより、次世代マスク/レチクルのパターニングに求められる多種多様な補正に対応することができます。

国内外のキャプティブマスクショップとマーチャントマスクショップ。

つなぎ精度	≦±3.8nm
重ね合わせ精度	≦±7nm

主なJEOL製品の仕組みや応用について、
わかりやすく解説しています。