断面試料作製装置IB-19530CP クロスセクションポリッシャ™を販売開始 ―各種機能ホルダーによる多機能化を実現―

2017/04/03

日本電子株式会社(代表取締役社長 栗原 権右衛門)は、新型断面試料作製装置IB-19530CP クロスセクションポリッシャ™を開発し、2017年4月より販売を開始しました。

開発の背景

断面試料作製装置であるクロスセクションポリッシャ™は、当社が2003年に商品化し、累計で1,600台を超える販売実績を誇るベストセラー製品です。
ブロードアルゴンイオンビームと遮蔽板を用いることで、一般の機械研磨に比べ歪みがない平滑な断面が作製できることから、走査電子顕微鏡、電子プローブマイクロアナライザ、オージェマイクロプローブのための断面試料作製装置として広く様々な分野で利用されてきました。
IB-19530CPは、多様化する市場ニーズに応えるべく、マルチパーパスステージを採用し、各種機能ホルダーを交換することで多機能化を実現しました。
用途に応じた機能ホルダーを選択することにより、断面ミリングだけではなく、平面ミリング、イオンビームスパッタコーティングなどの機能が拡張できます。
また、高耐久性の遮蔽板を採用することにより、従来機に比べ遮蔽板のランニングコストを半分程度に抑えることができました。
より多くのニーズに低コストで応えるべく進化したクロスセクションポリッシャ™です。

主な特長

  • ハイスループット
    高速イオンソースの搭載と自動加工開始機能により、加工開始までの待ち時間なく短時間でミリングができます。
  • 自動加工プログラム
    高速加工と仕上げ加工をプログラムすることができます。高品質な断面を短時間で作製できます。
    また、間欠加工プログラムにより、加工温度を抑えた加工ができます。
  • 簡単セッティング
    機能ホルダーをモジュール化したことで、別売りの光学顕微鏡下でも加工位置の調整ができます。
  • マルチパーパスステージ
    各種機能ホルダーを選択することにより、断面ミリングだけではなく、平面ミリング、イオンビームスパッタコーティング機能が拡張できます。
  • 高耐久遮蔽板
    従来の遮蔽板に比べ約3倍の耐久性を実現し、高加工レート化/長時間ミリングに対応できます。

主な仕様

イオン加速電圧 2~8kV
ミリングスピード 500μm/h
最大搭載試料サイズ 11mm(幅)×10mm(長さ)×2mm(厚さ)
試料スイング機能 ミリング中、試料を±30°自動スイング (特許:第4557130号)
自動加工開始モード 設定した圧力値に到達後、自動で加工開始
間欠加工モード イオンビーム照射をパルス制御し、加工時に発生する熱を抑える
仕上げ加工モード メイン加工後、仕上げ加工を自動で開始

断面試料作製装置IB-19530CPクロスセクションポリッシャ(TM)

本体標準価格

11,000,000円~

販売予定台数

130台 / 年間

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