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特長 STRONG POINT

JBX-8100FSシリーズ 電子ビーム描画装置
スポット型電子ビーム描画装置JBX-8100FSは、従来装置よりもオペレーション中や描画中の無駄時間を極力省くことでスループットを向上させ、省スペース、低消費電力を実現した装置です。

省スペース

標準の設置面積は4.9m(W)×3.7m(D)×2.6m(H)であり、従来機種よりも省スペース設計となっています。

低消費電力

通常時の消費電力は約3kVAであり、従来機種よりも約1/3に削減しました。

高スループット

高分解能描画モードと高速描画モードの2つのモードを有し、極微細加工から少・中量生産にまで対応しています。また、描画中の不要な時間を短縮し、更に最大走査スピードを従来比1.25~2.5倍の125MHz(世界最高クラス)で高速走査を実現しています。

バージョン

JBX-8100FSはG1(エントリーモデル)とG2(フルオプションモデル)の2バージョンを準備しています。G1モデルには導入後にオプションを追加することが可能です。

新機能

装置には光学顕微鏡(オプション)が搭載可能であり、レジストを感光させることなく材料上のパターンを確認することが可能です。また、目視の範囲内で装置の稼働状況がわかるようにシグナルタワーが標準搭載されています。

レーザー位置決め分解能

標準では0.6nmの単位でステージ位置を測定および制御を行っていますが、0.15nm単位にも対応可能です(オプション)。

装置制御

Linux®を搭載しており、グラフィックユーザーインターフェイスにより初心者にも使いやすいシステムとなっています。また、データ準備プログラムはLinux®、Windows®の両方に対応しております。

脚注:
Linux®はLinus Torvalds氏の日本およびその他の国における登録商標または商標です。
Windows は、米国 Microsoft Corporation の、米国およびその他の国における登録商標または商標です。

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仕様 SPEC

バージョン G1 (エントリーモデル) G2 (フルオプションモデル)
描画方式 スポットビーム、ベクタースキャン、
ステップアンドリピート
加速電圧 100kV 100kV/50kV
ビーム電流 5×10-12 ~ 2×10-7A
フィールドサイズ 最大1,000μm×1,000μm 最大2,000μm×2,000μm 
走査スピード 最大125MHz
ステージ移動範囲 190mm×170mm
重ね合わせ精度 ≦±9nm
接合精度 ≦±9nm
通常時消費電力 3kVA
材料サイズ 最大200mmΦウエハー
6インチマスク
任意の微小サンプル片
材料搬送 1枚オートローダー 12枚オートローダー
主な装着可能オプション 光学顕微鏡
25kV高電圧印加プログラム
データ準備プログラム追加ライセンス
高分解能レーザーコントロールシステム

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