真空中で金属や酸化物を蒸着または溶解するための高出力の電子ビーム源です。連続的に走行する幅広の長尺フィルムや大面積のガラス基板上へハイレートで成膜します。また電子ビーム溶解用として、高融点金属のインゴット作製・精錬に使用されます。
特長
電子ビームは広範囲に高速で走査する事ができます。専用の制御装置とソフトウェアにより、様々なビーム照射パターンやエリアを作成できます。各照射位置においてスキャン、滞在時間、出力、ビーム形状を設定できるため、溶融面や膜厚分布の制御が可能です。
用途
真空蒸着
バリア膜、保護膜、電極膜、導電膜、磁性膜 等の薄膜形成
真空溶解
Ti, Ta, Nb, Mo等高融点金属のインゴット作製・精錬
太陽電池用多結晶シリコン精錬
高出力電子銃
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この動画では、光の変化の激しい部分があります。ご鑑賞にあたりましては部屋を明るくしてから離れてご覧下さい。映像を見て気分が悪くなったり病気の発作が生じたりするなど健康上の影響が出る可能性がございますのでご注意ください。
2 line scanning
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仕様・オプション
| 型式 | EBG-300UA | JEBG-1000UB | JEBG-3000UB |
|---|---|---|---|
| 最大出力 | 30kW (20kV, 1.5A) |
100kW (30kV, 3.4A) |
300kW (40kV, 7.5A) |
| 最大偏向角 | ±30° | ||
| 走査範囲 | X, Y 軸 | ||
| 最大走査周波数 | 300Hz | 200Hz | 200Hz （300Hz：オプション） |
| 適用電源 | ST-30BE2 | JST-100C | JST-300CHR |
