ISPP-1000は比較的小さい試料の研磨を目的として開発され、電子顕微鏡を始めとした各種分析・解析のための試料研磨を得意としております。
特長
CP用試料の前処理研磨
クロスセクションポリッシャ™・イオンミリング用の試料載せ台を直接取り付け、簡単に研磨面の直角を作り出せる専用試料ホルダを用意しました！
ISPPだけでEBSDの結晶方位面を出せます
研磨時間・研磨圧・速度・スイング動作の設定、独自の試料保持、研磨量調整機構により、組織構造に与えるダメージが少ない研磨が可能です。また、オプションのウェイトキャンセラーを使用する事で試料にかかる負担を更に軽減する事ができ、ダメージを最小限に抑える事が出来ます。
高拡大率の斜め研磨を手軽に実現
ISPPでは、試料ホルダにオプションのジンバルアジャスタを装着する事により、2本のマイクロユニットによって各方向に最大6度、全周方向に傾斜角の調整ができるようになります。マイクロの分解能は、1メモリあたり0.02度相当。高拡大率を得るための浅い傾斜角でも精度良く設定する事が出来ます。
半導体断面サンプルの作製が早くて奇麗
デバイスを直接クランプ出来る構造の試料ホルダを用意しました。これにより、包埋処理の時間が不要になり、圧倒的な解析TAT短縮が実現できます。
仕様・オプション
| 寸法 | 筐体部 (W)205mm×(D)225mm×(H)155mm 10kg |
|---|---|
| 設置スペース | (W)335mm×(D)260mm×(H)330mm 突起部を除く |
| 研磨盤 | φ110mm |
| 電源 | AC100～240V 50/60Hz 65W(max) |
システム構成
| 本体セット | 研磨機本体 | 倒立光顕 （対物レンズ10倍/接眼レンズ20倍) 廃液タンク 研磨盤×1 ACアダプタ |
|---|---|---|
| ホルダセット | 金属材料用 | スイングアーム、ウエイトセット 平面用ホルダー、標準ホルダー |
| 半導体・電子部品用 | スイングアーム、ウエイトセット IC用ホルダー、標準ホルダー*1 |
|
| オプション | 対物レンズ | 4倍、20倍 |
| 接眼レンズ | 16倍、10倍*2 | |
| 顕微鏡用カメラユニット | PC用USB出力タイプ | |
| 粗微動 マイクロメーター |
最小分解能1μm | |
| 研磨盤 | SUS440C HRC55 |
消耗品
| 研磨材 | 耐水ペーパータイプ | 600#、800#、1200#、1500# |
|---|---|---|
| フィルムタイプ | D AO SC 1μm、3μm、5μm、9μm | |
| バフタイプ | スエードパッド、ナイロンパッド（織布） | |
| ダイヤモンドホイール | 電着/400#、800# レジン/600#、800# |
|
| ダイヤモンドスラリー | 0.5μm、1μm、3μm（スプレー式） | |
| コロイダルシリカ | 各種 |
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