新たに高速&仕上げ加工の搭載により高スループットと高い断面品質を実現させました。
また、熱損傷を受け易い試料については間欠モードを標準装備。
幅広い材料加工に対応すべく進化しています。
特長
クロスセクションポリッシャ (CP) が進化しました。
新開発イオンソース搭載により高速加工を実現。
仕上げ加工&間欠モードにより試料ダメージを軽減。
クイックスタート機能により時間短縮。
加工状況がリアルタイムで確認できるモニターカメラを標準装備。
帯電防止コーティング機能(オプション)
IB-19510CPの特長
★新開発高速イオンソースの搭載。
500μm/h(8KV/2時間平均値)の実現。
8KV、2時間の加工結果 (試料:Si)
★仕上げ加工の選択が可能。
高速加工の後に仕上げ加工設定することにより
加工断面表層のイオンダメージを軽減させます。
★間欠加工のダメージ対策。
試料への熱損傷軽減の為に間欠加工モードを標準装備。
1秒刻みでの間欠を設定することが可能です。
(試料：Sn-Pb共晶)
★加工モニター機能
断面加工状態をCCDカメラによりリアルタイムで
確認が可能です。倍率可変もできます。
★帯電防止コーティング機能(オプション)
粒状性のよい薄いカーボンコーティングが可能です。
非導電性試料のEBSD解析、EDS元素分析等に最適です。
★試料回転ホルダー (オプション)
試料を回転させながらイオンビーム加工をする為のホルダーです。
断面、平面加工が可能です。
多孔質材料、粉末、繊維等の加工スジが出てしまう様な
試料に対応します。
加工歪みを削り取る仕上げに最適です。
SEM応用例
試料回転ホルダは試料を回転させながら加工することで、多孔質材料や粉末など、イオン加工スジが目立つ試料の断面作製の際により良い結果を得ることができます。
アプリケーション
IB-19510CPに関するアプリケーション
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