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JEM-2100Fは、高輝度で高い干渉性、しかも高い安定度の電子線が得られるフィールドエミッション電子銃(FEG)を搭載し、ナノスケールオーダの超高分解能の像観察や分析が容易です。さらにPCのネットワーク機能を利用することにより、各種分析機器や画像機器との連携が実現できます。

特長

高分解能観察やナノ領域分析に欠かせないインテグレーションTEM

高輝度、高安定度のフィールドエミッション電子銃を搭載。高倍率での構造解析およびナノ領域分析が容易です。

プローブ径は、μmオーダーから最小径0.5nmが可能。分析点をナノメータレベルでの究極的な解析が容易です。

新方式のサイドエントリゴニオメータ

試料の傾斜、回転、加熱、冷却など物理的な条件の可変が容易でナノメータレベルの解析が可能です。

インテリジェント化

像観察室検鏡とPC制御環境を融合させたデザインです。

仕様・オプション

バージョン 超高分解能 高分解能 試料高傾斜 試料冷却 ハイコントラスト
ポールピース URP HRP HTP CRP HCP
分解能
粒子像 0.19 nm 0.23 nm 0.25 nm 0.27 nm 0.31 nm
格子像 0.1 nm 0.1 nm 0.1 nm 0.14 nm 0.14 nm
加速電圧 160 kV,200 kV※1
最小可変幅 50 V
電子銃
エミッション方式 ZrO/W(100)
輝度 ≧4×108 A/cm2/sr
真空度 ×10-8 Pa オーダ
プローブ電流 0.5 nA以上(プローブ径 1 nm)
電源安定度
高圧電源 ≦1×10-6/min
対物レンズ ≦1×10-6/min
対物レンズ
焦点距離 1.9 mm 2.3 mm 2.7 mm 2.8 mm 3.9 mm
球面収差係数 0.5 mm 1.0 mm 1.4 mm 2.0 mm 3.3 mm
色収差係数 1.1 mm 1.4 mm 1.8 mm 2.1 mm 3.0 mm
最小焦点可変量 1.0 nm 1.4 nm 1.8 nm 2.0 nm 5.2 nm
スポットサイズ
TEMモード 2~5 nm 7~30 nm
EDSモード 0.5~2.4 nm - - 4~20 nm
NBDモード - - -
CBDモード 1.0~2.4 nm -
収束電子回折
収束角 1.5~20 mrad - -
取込角 ±10° - -
倍率
MAG ×2,000~1,500,000 ×1,500~1,200,000 ×1,200~1,000,000 ×1,000~800,000
LOW MAG ×50~6,000 ×50~2,000
SA MAG ×8,000~800,000 ×6,000~600,000 ×5,000~600,000 ×5,000~400,000
カメラ長
制限視野回折 80~2,000 mm 100~2,500 mm 150~3,000 mm
高分散回折 4~80 mm
高分解能回折※2 333 mm
試料移動
X,Y 2 mm 2 mm 2 mm 2 mm 2 mm
Z ±0.1 mm ±0.2 mm ±0.2 mm
傾斜角
X/Y※3 ±25/±25° ±35/±30° ±42/±30° ±15/±10° ±38/±30°
X※4 ±25° ±80° ±80° ±80° ±80°
STEM※5
明視野格子像 0.2 nm - -
分解能 - -
EDS(Si(Li)型検出器)※6
立体角(30mm2) 0.13 sr. 0.13 sr. 0.13 sr. ※8 0.09 sr
立体角(50mm2)※7 0.24 sr. 0.28 sr. 0.23 sr.
取り出し角(30mm2) 25° 25° 25° ※8 20°
取り出し角(50mm2)※7 22.3° 24.1° 25°
  • 80、100、120 kV使用時は加速管ショート装置(オプション)を使用する

  • 高分解能回折室(オプション)使用時

  • 二軸傾斜ホルダ使用時

  • 高傾斜リテーナ使用時

  • 走査像観察装置はオプション

  • EDSはオプション

  • JEOL製EDSの50mm2検出器使用時

  • EDSは取り付け不可

アプリケーション

JEM-2100Fに関するアプリケーション

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