第8回光学薄膜フェア2021
公開日： 2021/10/21
弊社は2021年11月17日から開催されます「第8回光学薄膜フェア2021」に出展いたします。
ハイレートボンバード蒸着源をパネル展示いたします。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。
主催:株式会社オプトロニクス社
公式サイト
開催日/会場
- 日程:
2021年11月17日 (水) ～11月19日 (金) 10:00～17:00 - 会場:
東京都立産業貿易センター 浜松町館
〒105-7501 東京都港区海岸1-7-1
地図 - ブース番号:
3F-05
展示内容
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ボンバード蒸着源 BS-60610BDS
電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。
低ダメージ、低欠陥、低吸収、厚膜、ハイレートの成膜に適しています。電子銃と比較して、基板へのＸ線、反射電子による影響が、大幅に低減されています。
また、間接加熱方式を採用する事により、蒸着材料の急激な温度上昇が抑えられ、スプラッシュの発生が大幅に抑制されています。低欠陥MgF2光学膜、撥油・撥水膜の蒸着に適しています。
リボルバ式蒸着材料交換機構により、多層蒸着や厚膜蒸着も可能です。従来機種 (ボンバード蒸着源 BS-60310BDS ) の特長を継承し、ライナー大容量化とハイレート化を実現しています。
お問い合わせ
日本電子株式会社
産業機器営業部
TEL: 03-6262-3570
FAX: 03-6262-3577
E-mail: sales-ieg[at]jeol.co.jp
※上記の[at]は@に置き換えてください。
