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特長 STRONG POINT

BS-60610BDS ボンバード蒸着源

電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。
低ダメージ・低欠陥・低吸収・厚膜・ハイレートの成膜用途に適しています。
従来機種(BS-60310BDS)の特長を継承し、ライナー大容量化とハイレート化を実現しています。

電子ビーム照射範囲の拡大

蒸着材料を充填したライナーに電子ビームを照射し間接的に加熱蒸発させます。
走査コイル搭載により電子ビーム照射範囲が拡大しています。

ボンバード方式による加熱原理(イメージ図)

ボンバード方式による加熱原理(イメージ図)

ハイレート化

電子ビーム照射範囲の拡大により電子ビーム電流密度の低下に伴う最大出力増大と蒸発面積の拡大が可能となりました。最大出力増大と蒸発面積拡大によりハイレート化を実現しています。

(Al顆粒使用、 T-S距離1.1m)
出力対アルミ蒸着レート

出力対アルミ蒸着レート

ライナー大容量化

ライナー大容量化により、蒸着材料の充填量が増大します。それにより最大膜厚も増大し、厚膜用途に対応可能です。電子ビーム走査により昇華性材料の効率的な加熱蒸発が可能となっています。

(最大膜厚はT-S距離1.1m時)
従来機種
BS-60310BDS
新形機種
BS-60610BDS
従来比

フッ化物用
ライナー容量

7.5cc

12.8cc 1.7倍
アルミ用
ライナー容量
1.5cc 9cc 6倍
MgF2蒸着
最大膜厚
200nm 400nm 2倍
LaF3蒸着
最大膜厚
90nm 400nm 4.5倍
Al蒸着
最大膜厚
250nm 2500nm 10倍

蒸着材均一加熱

走査コイル電流波形の補正機能によりライナーの温度分布調整が可能となり、溶け残りを防止します。

対応電源:BS-72010ICE
走査コイル電流モード:ACRモード
走査コイル電流:4.5App (X,Y共)
走査コイル電流波形例
走査コイル電流波形例
MgF2溶け跡
MgF2溶け跡

従来機種(BS-60310BDS)から継承された特長

優れたレート制御性

電子ビームによる高速加熱制御により、抵抗加熱蒸発源と比較して優れた蒸着レート制御性や安定性を実現します。

多種材料・多層蒸着

リボルバー式蒸着材交換機構により、異種材料の多層蒸着も可能です。
標準構成は6点ライナータイプです。

低欠陥成膜

ライナー内蒸着材料の均一加熱による溶け残り防止とMgF2材全体溶融化により、スプラッシュの発生が通常の 電子ビーム蒸着と比べて大幅に抑制されます。
パーティクルの混入を防いだ低欠陥の成膜に適しています。

低吸収成膜

フッ化物を始めとした紫外域や赤外域の光学膜に適しています。

MgF2単層膜紫外域分光特性

MgF2単層膜紫外域分光特性

ダメージレス蒸着

反射電子やX線による基板へのダメージがありません。

Ge蒸着実施例

赤外透過膜に利用されるゲルマニウムでも、ハイレート蒸着(従来比40倍)が可能であり、スループットが向上します。また、蒸着中のスプラッシュを抑制するためライナー形状にも工夫があり、安定蒸着と光学吸収の少ない成膜が可能です。

Ge蒸着実施例

Ge成膜ではEB蒸着と比較してスプラッシュと表面粗さ数値が小さい成膜を実現しています。

Ge蒸着例

カタログ

仕様/オプション SPEC / OPTION

基本仕様

出力

最大4.8kW (※1)

冷却水 4~5 L/min, 水温 10~25°C
動作圧力 5×10-5~1×10-2 Pa
外形寸法 345mm(W)×355.5mm(D)×181.5mm(H)
質量 22kg

標準構成

BS-60610BDS ボンバード蒸着源 本体 6点ライナータイプ (※2,※3)

オプション品

BS-60600RF

水冷ルーフ (※4)

BS-60620LN フッ化物蒸着用ライナー
BS-60660LN アルミ蒸着用ライナー
BS-60680SP スペーサー (※5)
  • ※1: 最大出力はライナーの種類に依存します。
          電子銃電源BS-72010ICEが対応電源です。
  • ※2: BS-60610BDSにライナーは含まれません。
          オプション品の購入が必要です。ライナーは性能に大きく影響しますので、必ず当社オプション品をご使用ください。
  • ※3: ライナー点数変更は別途ご相談に応じます。
  • ※4: 基板温度上昇を抑える場合に使用します。
  • ※5: スペーサーまたは加熱効率を向上させるカバー(推奨)のいずれかを使用する必要があります。
     

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