スポット型電子ビーム描画装置JBX-8100FSシリーズを販売開始 – ハイスループット、省エネを実現 –

2017/03/28

日本電子株式会社(代表取締役社長 栗原 権右衛門)は、新製品としてスポット型電子ビーム描画装置JBX-8100FSシリーズを開発し、2017年3月より販売を開始しました。

開発の背景

スポット型電子ビーム描画装置は、極微細パターンを作製するツールとして汎用性の高い装置です。様々な研究開発や生産分野で使用されていますが、最小加工寸法が数nm~数十nmを達成できる代わりにスループットが低下するという潜在的な問題をかかえています。また、大型設備であるためにランニングコストもかかります。
こうした現状を打開するため、オペレーション中や描画中の不要な時間を極力省きスループットを向上させ、省スペース、低消費電力の電子ビーム描画装置JBX-8100FSシリーズを開発しました。

主な特長

  • 省スペース
    標準の設置面積は4.9m(W)×3.7m(D)×2.6m(H)であり、従来機種より省スペース化を図っています。
  • 低消費電力
    通常時の消費電力は約3kVAであり、従来機種の約1/3に削減しました。
  • 高スループット
    高分解能描画モードと高速描画モードの2つのモードを有し、極微細加工から少・中量生産にまで対応しています。また、描画中の不要な時間を短縮し、更に最大走査スピードを従来比1.25~2.5倍の125MHz(世界最高クラス)で高速走査を実現しています。
  • バージョン
    JBX-8100FSはG1(エントリーモデル)とG2(フルオプションモデル)の2バージョンを準備しています。G1モデルには導入後にオプションを追加することが可能です。
  • 新機能
    装置には光学顕微鏡(オプション)が搭載可能であり、レジストを感光させることなく材料上のパターンを確認することが可能です。また、目視の範囲内で装置の稼働状況がわかるようにシグナルタワーが標準搭載されています。
  • レーザー位置決め分解能
    標準では0.6nmの単位でステージ位置の測定および制御を行っていますが、0.15nm単位にも対応可能です(オプション)。
  • 装置制御
    Linux®を搭載しており、グラフィックユーザーインターフェイスにより初心者にも使いやすいシステムとなっています。また、データ準備プログラムはLinux®、Windows®の両方に対応しております。

脚注:
Linux®はLinus Torvalds氏の日本およびその他の国における登録商標または商標です。
Windowsは米国Microsoft Corporationの米国およびその他の国における登録商標または商標です。

主な仕様

描画方式 スポットビーム、ベクタースキャン、ステップ&リピート
加速電圧 100kV (50kV, 25kVはオプション)
走査スピード 最大125MHz
フィールドサイズ 100μm× 100μm (高分解能描画モード)
1,000μm×1,000μm (高速描画モード)
ステージ移動範囲 190mm×170mm
ステージ移動制御単位 0.6nm (0.15nmはオプション)
重ね合わせ精度 ±9nm以下 (高分解能描画モード)
±20nm以下 (高速描画モード)
フィールド接合精度 ±9nm以下 (高分解能描画モード)
±20nm以下 (高速描画モード)
描画材料サイズ 最大200mmφウエハー、最大6型マスクおよび任意のサイズの微小サンプル片も装填可能です。
JBX-8100FS製品外観

関連リンク