AESによる化学状態分析:薄膜界面における Ti と SiO2 の酸化還元反応

半導体デバイスの中には、Si 基板上に SiO2 膜を形成し、その上にTiやPtといった金属薄膜を形成させたものがあります。その薄膜の作成条件によっては界面で化学反応が起こり、思い通りの界面が形成ができないことがあります。
そのような界面における化学状態を調べるために、高エネルギー分解能のオージェ分析が利用されています。