• 概要

日本電子News Vol.43, 2011 松下光英†、川合修司†、岩間岳†、田中勝広†、久芳聡子††、遠藤徳明†

† 日本電子(株)EM事業ユニット
†† 日本電子(株)電子光学機器営業本部

近年、ナノメートルオーダーの組織制御技術を応用した新しい素材開発や、これら素材を応用した製品の開発が積極的に行われている。これら製品の開発過程において局所的な形態観察、分析手法として、走査透過/透過電子顕微鏡((S)TEM )の使用が欠かせないものとなっている。また、半導体を中心とした産業では、製造の歩留まり改善や不良要因解析の解析手段として(S)TEMが製造ラインに近い部署に配置され、昼夜を問わず運用されている。しかし、これまでの(S)TEMをこのような部署に配置した場合、コストや操作性等の運用面で課題となることがあった。本装置は、これら課題に対応するため新しく開発した装置である。以下、製品コンセプトと製品特長について述べる。
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