• 概要

電子ビームによる描画例 半導体デバイスを作製するための露光用マスク作りや、集積度の高いデバイスを作るためのSi基板上のレジストへの電子線直接描画のために電子線描画装置が使われています。最近では、半導体分野における描画技術を基にして、様々な分野でナノレベルの加工が試みられています。ここに示す写真は、FE-SEMに描画機能を付加して、直線(ラインアンドスペース)や同芯円構造を描画した例です。

設計ピッチ:0.5μm,0.2μm
走査線数:5本/ライン
加速電圧:10kV ×10.000

設計ピッチ:0.1μm
走査線数:1本/ライン
加速電圧:10kV ×5.000

極座標系による同芯円描画

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