集束イオンビーム加工観察装置JIB-4000PLUSを販売開始-自動TEM試料作製機能、最大照射電流 90 nAを備えたハイスループットFIB-

2019/01/07

日本電子株式会社 (代表取締役社長 栗原 権右衛門) は、新型の集束イオンビーム加工観察装置 (FIB) JIB-4000PLUSを開発し、2019年1月より販売を開始しました。

開発の背景

材料のナノスケール組織制御、パワー半導体・CMOSセンサーの開発・製造において、これらの形態観察やその形態管理を行うためにSEM (走査電子顕微鏡)、TEM (透過電子顕微鏡)、STEM (走査透過電子顕微鏡)による観察が広く行われていますが、これら観察の試料前処理装置としての集束イオンビームの需要はますます増加しています。一方で、試料前処理の作業効率化、時間短縮、また前処理にかかるコストの低減もまた求められています。
このようなニーズに応えるために、自動化、高速化をテーマにJIB-4000PLUSを開発しました。
新たに開発した "STEMPLING" (オプション) により複数のSEM、TEM、STEM観察試料を無人にて連続自動作製することが可能となりました。また、最大照射電流を90 nA (オプション) まで増やすことができるようになったため、従来機に比較して短時間の加工を実現します。
JIB-4000PLUSは、市場が要求する自動化、高速化を実現した次世代の集束イオンビーム加工観察装置です。

主な特長

  • 自動TEM試料作製機能
    オプションで自動TEM試料作製機能 "STEMPLING" が搭載可能です。この機能により、どなたでも簡単に自動で試料作製が行えます。また、複数試料の自動作製ができますので、夜間に大量の試料作製を実施するなど、試料作製のスループット向上が期待できます。
  • High Power FIBカラム
    JIB-4000PLUSは、イオンビームの最大電流値が60 nAのHigh Power FIBカラムを採用しています。さらに、オプションで最大電流値を90 nAまで拡張できます。最大ビーム電流の向上により、試料作製時間の短縮、より広領域の試料作製が可能になりました。
  • 三次元観察機能
    三次元観察を行うための連続スライス断面観察機能が標準機能になりました。
    JIB-4000PLUSは、シングルビームFIBでありながら、SIM像による三次元観察が行えます。オプションの三次元再構築ソフトウェアにより、収集した断面画像を三次元画像に再構築でき、さまざまな角度から三次元画像を表示できます。
  • 豊富なアタッチメント
    JIB-4000PLUSでは、操作をサポートする様々なアタッチメントを揃えています。
    TEM試料ホルダが直接挿入可能なサイドエントリゴニオメータステージ、回路修正のアプリケーションに有効なCADナビゲーションシステムや特殊形状の加工に有効なベクタースキャンシステム、追加のガスインジェクションシステムなどがあります。JIB-4000PLUSは、適切なアタッチメントを追加していただくことで、試料作製用途以外のアプリケーションにも対応可能です。

主な仕様

FIB
イオン源 Ga液体金属イオン源
加速電圧 1 ~ 30 kV
倍率 ×60 (視野探し)、×200 ~ ×300,000
像分解能 5 nm (30 kV時)
最大ビーム電流 60 nA (30 kV時) 標準
90 nA (30 kV時) オプション
可動絞り 12段 (モーター駆動)
加工形状 矩形、ライン、スポット、円、画像ファイルによる任意形状「ビットマップ」 (オプション) および「ベクタースキャン」 (オプション)
試料ステージ
試料ステージ バルク試料用5軸ゴニオメータステージ
可動範囲 X:±11 mm
Y:±15 mm
Z: 0.5 ~ − 23 mm
T: − 5 ~ +60°
R: 360°エンドレス
最大試料サイズ 外径 28 mm (高さ 13 mm)
外径 50 mm (高さ 2 mm)

JIB-4000PLUS本体
官民の研究開発拠点や半導体企業に向けて販売予定です。

本体標準価格

46,000,000円~

販売予定台数

20台/年間

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