2020/11/06

弊社は2020年11月11日から開催されます「第7回光学薄膜フェア2020」に出展いたします。
ハイレートボンバード蒸着源を実機展示およびパネル展示いたします。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。

主催:株式会社オプトロニクス社
公式サイト

開催日/会場

  • 日程:
    2020年11月11日(水)~11月13日(金) 10:00~17:00
  • 会場:
    東京都立産業貿易センター 浜松町館
    〒105-7501 東京都港区海岸1-7-1
    地図
  • ブース番号:
    4F-13

展示内容

  • ボンバード蒸着源 BS-60610BDS

    ボンバード蒸着源 BS-60610BDS
    電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。
    低ダメージ、低欠陥、低吸収、厚膜、ハイレートの成膜に適しています。電子銃と比較して、基板へのX線、反射電子による影響が、大幅に低減されています。
    また、間接加熱方式を採用する事により、蒸着材料の急激な温度上昇が抑えられ、スプラッシュの発生が大幅に抑制されています。低欠陥MgF2光学膜、撥油・撥水膜の蒸着に適しています。
    リボルバ式蒸着材料交換機構により、多層蒸着や厚膜蒸着も可能です。従来機種( ボンバード蒸着源 BS-60310BDS )の特長を継承し、ライナー大容量化とハイレート化を実現しています。

お問い合わせ

日本電子株式会社
産業機器営業部
TEL: 03-6262-3570
FAX: 03-6262-3577