特長
AFMの特徴
AFMとは試料表面と探針の原子間に働く力を検出して、微小領域をX, Y, Zのピエゾスキャナーを用いて走査し、三次元の画像を得ることができる光の回折限界を超えた高分解能顕微鏡です。
測定雰囲気を選ばず、導電性、絶縁性にもよらないため試料の前処理が不要です。大気中以外にも液中、ガス中、温度や湿度の制御下での測定が可能です。また、形状情報と同じ場所の機械物性、電気物性、化学情報などの同時測定も可能な応用範囲の広い分析装置です。
各装置の概要・特徴
■NX10
概要

Park NX10は、最高のナノスケール解像度で信頼あるデータを提供します。サンプルのセッティングからイメージング、測定、解析に至るまですべての段階において簡単に操作することができます。NX10なら、ユーザーはより効率的で、より優れたデータを土台とし、革新的な研究に集中することができます。
特長
Park SmartScan™自動モード
SmartScan™自動モードは、パーク・システムズ独自のテクノロジーによって実現されました。このソフトウェアはイメージングに必要なすべての作業をこなし、最適な画質とスキャン速度を自動的に判断して決定するインテリジェントソフトウェアです。このソフトウェアを導入することで、時間とコストが削減され、より良い研究結果を期待できます。
パーク・システムズのクロストーク除去テクノロジー
Park NX10は、最高のナノスケール解像度にて、信頼性が高く、正確なデータを取得します。試料の表面の状態を傷つけることなくスキャンしながら、探針の寿命も延ばす世界で唯一の真のノンコンタクトモードAFMと、高い精度と解像度を実現するフレクチャーガイド式の独立したX / YおよびZスキャナーを備えています。
低ノイズZ検出器による正確なAFMトポグラフィー
Z検出器は、新しいNXシリーズのAFMにおいてコアとなるキーテクノロジーといえます。Z検出器はパーク・システムズによって取り入れられた歪ゲージセンサーです。Z検出器ノイズは、0.2Åと、業界最高水準となっています。このノイズレベルは、トポグラフィー信号を検出するには十分な低さといえます。新しいNXシリーズAFMを前世代モデルのXEと比べると、違いが見て取ることができます。Z検出器のノイズが高いと、サファイア基盤などの原子ステップを明確に観察できません。Park NX AFMのZ検出器からの高さ信号は、Z電圧ベースのトポグラフィー同レベルの低ノイズとなっています。
■NX20
概要

NX20には、進化した測定及び分析機能をナノスケールで実現できる自動AFM測定法が搭載されており、 熱特性やナノ機械特性イメージング機能、欠陥レビュー、電気及び磁気故障解析も兼ね備えています。 粗さ、高さ及び深さの測定ができるAFMは、幅広い大型サンプルを扱う作業に理想的な装置です。
特長
より強力な故障解析ソリューション
Park NX20には、デバイス障害の背後にある原因を明らかにし、より創造的なソリューションを開発するための独自の機能が装備されています。その比類なき精度により、作業に集中できる高解像度のデータの提供を可能にします。また、真のノンコンタクト™モードのスキャンによって、チップの摩耗が少なく、先端の形状を長く保つことができるため、無駄な時間と費用の発生を防ぐこともできます。
初心者でも使いやすい操作方法
Park NX20は、業界で最もユーザーフレンドリーな設計と自動化されたインターフェイスを備えているため、オペレーションやそのツールの使用や教育にかかる時間と労力をセーブすることができます。これにより、より大きな問題の解決に集中的に作業することができ、顧客へ明確でタイムリーな故障解析を行うことができます。
大型ウェーハ研究のために製作
NX20は、大型サンプルを最適に測定できるよう設計されました。低ノイズAFM測定を通して、最大300 mmウェーハの領域全体を分析することができます。 これにより、まったく新しい自動化測定の可能性が広がり、ユーザーはよりシンプル、且つ迅速に、そして精度の高い作業を叶えられます。
■FX40
概要

複数のサンプルイメージを今まで以上に鮮明でクリアな最高の解像度でイメージングすることができます。FX40には、人工知能 (AI) とロボティクスが搭載されており、自動化されたプロセスと機械学習 (ML) をこなし、前例のないスピードと精度で科学的発見と進歩を後押します。新しく追加されたカメラセンサー群は、レーザーと光検出器、早期警告システム、誤作動を防ぐフェイルセーフと自動的に同期し、あらゆる段階で情報が抽出、保存されます。これまでの複雑なトレーニングなしですべてのユーザーは研究に没頭することができます。
特長
自動プローブ交換
プローブ交換の完全自動化により、古いプローブを簡単かつ安全に交換できます。8つのプローブがセットされているカセットと磁気制御機構を活用することで、ユーザーの操作なしにプローブの取り付けが可能となりました。
自動レーザーアライメント
レーザーをカンチレバーの適切な位置に配置し、PSPD (光検出器) の位置も垂直方向と横方向の両方向で調整し、最適化します。たったのワンクリックのみでX, Y, Z軸を動かし、歪みのない鮮明なイメージを出力します。
安全装置
プローブとサンプルのクラッシュを防止するために、ソフトウェアインターロックとハードウェアスイッチを組み合わせたことで、プローブとAFMスキャナを保護します。アルゴリズムプログラミングにより、Zステージはサンプル表面とプローブが衝突する範囲まで下がらず、サンプルとAFMの安全性を保ちます。
仕様・オプション
ステージ | NX10 | NX20 | FX40 | |
サンプルマウント | 100 mm × 100 mm × 20 mm | 150 mm Wafer (Option 200 mm, 300 mm |
20 mm × 20 mm × 20 mm, 4個 | |
XY ステージ | 20 mm × 20 mm | 150 mm × 150 mm (Option 200 mm × 200 mm, 300 mm × 300mm) |
105 mm × 40 mm | |
Z ステージ | 15 mm | 25 mm | 22 mm | |
フォーカスステージ | 15 mm | 15 mm | 25 mm | |
スキャナー | XY スキャナーの構造 | クローズドループ制御付きシングルモジュールのフレクチャー式XYスキャナー | デュアルサーボ・クローズドループ制御のシングルモジュール・フレクチャー式XYスキャナー | シングルモジュール・パラレルキネマティック2Dフレクチャー式スキャナー |
駆動範囲 | 50 µm × 50 µm (Option 100 µm × 100 µm) |
100 µm × 100 µm | 100 µm × 100 µm | |
Z スキャナーの構造 | フレクチャーガイド式高力スキャナー | フレクチャーガイド式高力スキャナー | フレクチャーガイド式高力スキャナー | |
駆動範囲 | 15 µm (Option 30 µm) | 15 µm (Option 30 µm) | 15 µm (Option 30 µm) | |
エレクトロニクス | ADC | 18 Channel, 24bit | 18 Channel, 24bit | 18 Channel, 24bit |
DAC | 17 Channel, 20bit | 17 Channel, 20bit | 24 Channel, 20bit | |
Digital Q Control | Yes | Yes | Yes | |
Lock-in Amp | 4 Channel | 4 Channel | 8 Channel | |
Communication | 100 Mbps | 100 Mbps | 1 Gbps | |
サポートモード | トポグラフィー | 真のノンコンタクトモード™、タッピングモード、コンタクトモード | 真のノンコンタクトモード™、タッピングモード、コンタクトモード | 真のノンコンタクトモード™、タッピングモード、コンタクトモード |
磁気特性 | 磁気力顕微鏡 (MFM)、磁場調整式磁気力顕微鏡 (TM-MFM) | 磁気力顕微鏡 (MFM)、磁場調整式磁気力顕微鏡 (TM-MFM) | 磁気力顕微鏡 (MFM)、磁場調整式磁気力顕微鏡 (TM-MFM) | |
誘電 / 圧電特性 | 圧電応答力顕微鏡 (PFM)、圧電応答スペクトロスコピー、高圧電応答力顕微鏡 | 圧電応答力顕微鏡 (PFM)、圧電応答スペクトロスコピー、高圧電応答力顕微鏡 | 圧電応答力顕微鏡 (PFM)、圧電応答スペクトロスコピー、高圧電応答力顕微鏡 | |
電気特性 | コンダクティブAFM (C-AFM)、I/Vスペクトロスコピー、ケルビンプローブ顕微鏡 (KPFM)、高電圧ケルビンプローブ顕微鏡、走査型キャパシタンス顕微鏡 (SCM)、走査型広がり抵抗顕微鏡 (SSRM)、走査型トンネリング顕微鏡 (STM)、走査型トンネリングスペクトロスコピー (STS)、フォトカレントマッピング (PCM)、静電力顕微鏡 (EFM)、ダイナミックコンタクト静電力顕微鏡 (DC-EFM)、I/Dスペクトロスコピー | コンダクティブAFM (C-AFM)、I/Vスペクトロスコピー、ケルビンプローブ顕微鏡 (KPFM)、高電圧ケルビンプローブ顕微鏡、走査型キャパシタンス顕微鏡 (SCM)、走査型広がり抵抗顕微鏡 (SSRM)、走査型トンネリング顕微鏡 (STM)、走査型トンネリングスペクトロスコピー (STS)、フォトカレントマッピング (PCM)、静電力顕微鏡 (EFM)、ダイナミックコンタクト静電力顕微鏡 (DC-EFM)、I/Dスペクトロスコピー | コンダクティブAFM (C-AFM)、I/Vスペクトロスコピー、ケルビンプローブ顕微鏡 (KPFM)、高電圧ケルビンプローブ顕微鏡、走査型キャパシタンス顕微鏡 (SCM)、走査型広がり抵抗顕微鏡 (SSRM)、走査型トンネリング顕微鏡 (STM)、走査型トンネリングスペクトロスコピー (STS)、フォトカレントマッピング (PCM)、静電力顕微鏡 (EFM)、ダイナミックコンタクト静電力顕微鏡 (DC-EFM)、I/Dスペクトロスコピー | |
機械特性 | PinPoint™ナノメカニカルモード、フォースモジュレーション顕微鏡 (FMM)、ナノインデンテーション、ナノリソグラフィー、高電圧ナノリソグラフィー、ナノマニピュレーション、水平力顕微鏡 (LFM)、F/Dスペクトロスコピー、フォースボリュームイメージング、ばね定数校正 | PinPoint™ナノメカニカルモード、フォースモジュレーション顕微鏡 (FMM)、ナノインデンテーション、ナノリソグラフィー、高電圧ナノリソグラフィー、ナノマニピュレーション、水平力顕微鏡 (LFM)、F/Dスペクトロスコピー、フォースボリュームイメージング、ばね定数校正 | PinPoint™ナノメカニカルモード、フォースモジュレーション顕微鏡 (FMM)、ナノインデンテーション、ナノリソグラフィー、高電圧ナノリソグラフィー、ナノマニピュレーション、水平力顕微鏡 (LFM)、F/Dスペクトロスコピー、フォースボリュームイメージング、ばね定数校正 | |
化学特性 | 化学力顕微鏡 (CFM)、電気化学顕微鏡 (EC-AFM) | 化学力顕微鏡 (CFM)、電気化学顕微鏡 (EC-AFM) | ||
サーマル特性 | 走査型サーマル顕微鏡 (SThM) | 走査型サーマル顕微鏡 (SThM) | 走査型サーマル顕微鏡 (SThM) |
ギャラリー

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