SEM・表面分析・前処理セミナー@大阪
公開日: 2025/04/07
昨年、名古屋会場で開催されていたSEM・表面分析・前処理セミナーを、今年は大阪にて開催を予定しています。
昨年と同様、さまざまな分野を網羅した新技術情報や実践的技術情報の発表を企画しています。会場ではポスター展示や装置紹介コーナー設置を予定しており、またCP試料作製についての相談コーナーを設置します。当該相談コーナーにつきましては事前予約制とさせていただきますのでご希望される方は申し込みフォームにご記入ください。
講演終了後には懇親会を予定しておりますので、ユーザーの皆様と弊社スタッフの情報交換の場として有意義にご歓談いただければ幸いです。
当ユーザーズミーティングは弊社装置をお使いの方に限らず、他社装置をお使いの方、装置にご興味がある方、どなたでもご参加できる無料のセミナーです。ご多忙の折とは存じますが、皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております。
開催日 |
2025年11月20日(木)10:00~18:10 |
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会場 |
梅田スカイビル タワー ウエスト3F ステラホール |
参加費 |
無料 (先着順での受付となります。お早目にお申込みください。) |
ご連絡 |
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お問い合せ |
日本電子株式会社
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プログラム
時間 | 題名 要旨 |
講演者 |
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09:30~ | 受付 | |
10:00~10:10 | 開会挨拶 | |
10:10~10:40 |
IoTクロスセクションポリッシャ™の新機能の紹介 新型クロスセクションポリッシャ™(CP)は、遠隔操作によって加工条件の変更や加工領域の確認が可能です。また、10kVイオンソースによる高いミリングレートを実現し、フローに沿って設定できる直感的な操作画面も備えています。今回は、これらの基本機能に加えて、大気非曝露下での加工など新機能や操作性の向上についてご紹介します。 |
日本電子株式会社 SI事業部門 EP事業ユニット EPアプリケーション部 應本 玉恵 |
10:40~11:10 |
~SEMの測定作業を効率化~ 走査電子顕微鏡 (SEM) は研究開発、品質保証、製品検査の現場まで幅広く使われています。これらの用途においては、大量の画像や分析データの取得を必要とすることが多く、SEMの自動化のニーズが高まっています。このようなニーズに応え、弊社はオート機能を飛躍的に向上させた高分解能FE-SEM「JSM-IT810」を開発しました。新搭載の自動観察・分析機能「Neo Action」 は、視野移動から測定条件変更、光学系調整、画像取得、EDS による元素分析までを、多視野に対して自動で行う機能です。本講演ではNeo Actionの特長と、スループットと安定したデータ取得が求められる事例として、半導体試料等での活用例について紹介します。 |
日本電子株式会社 SI事業部門 EP事業ユニット EPアプリケーション部 髙山 隼 |
11:10~11:40 |
高自由度・高安全性を備えた FIB-SEM JIB-PS500iの応用例紹介 JIB-PS500iは、XY軸130mmの移動範囲と-40〜+93度のステージ傾斜が可能で、大型試料を多角的に加工・観察可能です。また、WD4mmの短いコインシデンスポイントにより、電子・イオンビームの高い集束性を活かした高精度加工・高分解能観察を実現。さらに、3Dモデルによる干渉防止機構により、安全性の高い操作が可能です。本発表では、これらの特長を活かしたJIB-PS500iの応用例を紹介します。 |
日本電子株式会社 SI事業部門 EP事業ユニット EPアプリケーション部 中島 雄平 |
11:40~12:15 |
昼食 |
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12:15~13:00 |
実機・ポスター展示 |
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13:00~13:30 |
WDSスペクトラマップ分析の紹介 電子プローブマイクロアナライザー(EPMA)において、元素マッピングと波長分散型X線分光器(WDS)駆動を同期させることで、エネルギー分散型X線分光器(EDS)と比較して圧倒的に高いピーク分解能を持つスペクトルイメージング手法を開発した。本測定手法では、分析視野内の各ピクセルに対応するスペクトル情報を保持しているため、ネット強度マップの作成、波長ROI(Region of Interest)幅の変更,指定視野領域の平均組成情報の取得といった解析を柔軟に行うことができる。これにより、データのハンドリング性が大幅に向上した。本発表では、本ソフトウェアにおけるデータ取得手法とその解析例について報告する。 |
日本電子株式会社 SI事業部門 SA事業ユニット SA技術開発部 縄舩 泰輝 /加藤 光樹 |
13:30~14:00 |
現場で使える EPMAテクニック 高い波長分解能と微量元素分析能力を有する電子プローブマイクロアナライザー(EPMA)は固体表面の微小領域の非破壊分析装置として幅広い分野で使用されています。 定量分析や面分析を含むあらゆる元素分析において、定性分析(元素同定)は基本となる分析であり、非常に重要な役割を持っています。 本発表では、EPMAやEPMAに搭載されているEDSを用いた定性分析において、正しい元素同定を行うための基礎を紹介します。 |
日本電子株式会社 ソリューション開発センター ソリューション推進部 土門 武 |
14:00~14:30 |
Augerを用いたスペクトルの取得について オージェ電子分光法は、試料表面から約10 nmの深さを約10 nmの空間分解能で分析できる優れた手法です。しかし、「同じ試料を同じ条件で測定しても結果が異なる」「AESは再現性がない」といった理由で敬遠されることがあります。果たして本当に“同じ条件”で測定できているのでしょうか。分析結果には、プローブ径、試料の凹凸、サンプリング方法など多くの要因が影響します。本稿では、特に分析領域・試料高さ/傾斜・プローブ径に着目し、条件の違いによるスペクトル変化を報告し、再現性のある測定のための指針を示します。 |
日本電子株式会社 SI事業部門 SA事業ユニット SA技術開発部 伊木田 木の実 |
14:30~15:00 |
XPSを用いた粉体分析を行う方へ XPSを用いた粉体試料の分析において、試料の固定方法はいくつか種類があり、試料量や目的等によって使い分けられる。 今回、一般的な固定方法であるカーボンテープへの固定、加圧成型、インジウム等の基材への埋め込みを用いていくつかの試料をXPS測定した。 本発表ではこれらの手法について試料量、固定圧力、固定する基材を変えた際に、得られるXPSスペクトルのピーク強度、ピーク幅、試料汚染への影響について報告する。 |
日本電子株式会社 SI事業部門 SA事業ユニット SA技術開発部 村谷 直紀 |
15:00~15:50 |
休憩 /実機・ポスター展示 |
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15:50~16:20 |
これから始めるVolume EM 電子顕微鏡を用いた三次元構造解析(Volume EM)には、アレイトモグラフィや、シリアルブロックフェイス(SBF)など、様々な手法があります。それぞれの手法の特徴を説明し、必要な機器や最適な試料作成方法など、これからVolume EM始めるために必要な情報を紹介します。 |
日本電子株式会社 ソリューション開発センター ソリューション企画室 鈴木 克之 |
16:20~16:50 |
SEM観察基礎編 日本電子では、装置をより有効にご活用していただくために講習コースをご用意しており、走査電子顕微鏡(SEM)に関しては、W-SEM標準コースやFE-SEM標準コースなど、毎月さまざまな内容で講習を実施しています。 本講演では講習会でも取り上げている「観察時の信号選択」に焦点を当てます。なかでも反射電子像というと「組成像(原子番号コントラスト像)」を思い浮かべる方が多いかと思いますが、実はそれだけではありません。反射電子を使って得られる凹凸像や結晶方位差による像、そしてそれぞれに適した検出器の選び方についてご紹介します。 |
日本電子株式会社 ソリューション開発センター ソリューション推進部 八幡 英里香 |
16:50~17:00 | 閉会挨拶 | |
17:00~18:10 | 懇親会 /実機・ポスター展示 |
プログラムは予告無く変更させていただく場合がございます。予めご了承頂きますようお願い申し上げます。
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