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第25回 高機能膜フォーラム

公開日: 2025/11/05

恒例となりました高機能膜フォーラムを今年も開催致します。今年も様々な分野の第一人者の先生方にご講演をして頂きます。講演会終了後には懇親会を予定しておりますので、情報交換の場として有意義にご歓談して頂ければ幸いに存じます。

開催日

2025年11月28日(金) 13:00~ (受付:12:00~)

会場

東京大学 浅野キャンパス 武田先端知ビル5階 武田ホール
〒113-8656 東京都文京区弥生2-11-16 アクセスマップ

東京メトロ 千代田線「根津駅」下車1番出口より徒歩7分

プログラム

時間 題名
要旨
講演者
12:00~13:00 受付
13:00~13:15 開会挨拶
13:15~14:15

光学コーティングへの応用にむけた高屈折率透明材料および黒色絶縁材料の開発

光干渉効果を用いる光学コーティングは、反射防止膜や誘電体ミラー、バンドパスフィルターなど幅広く応用される。 干渉状態制御に要する屈折率界面数や干渉状態の入射角依存性の低減には、高屈折率透明材料のさらなる高屈折率化が有効である。 また、可視光全域を強く一定に吸収する電気絶縁性黒色材料があれば、タッチパネルに応用可能な黒色反射防止膜の構築が期待される。本講演では、講演者らが開発した高屈折率透明材料や黒色絶縁材料を紹介する。

東北大学
大学院工学研究科
マテリアル・開発系
助教・工博
石井 暁大 氏
14:15~14:45

ボンバード蒸着源の応用

ボンバード蒸着源はフッ化物やAu, Agなどの金属蒸着用途で用いられ、可視光領域だけでなく赤外・紫外域での応用も期待されています。 今回は主にフッ化物成膜における最新の応用例について紹介します。

日本電子株式会社
IS事ユニット
IE技術開発部 1G
佐野 紘晃
14:45~15:15

休憩

15:15~15:45

電子ビーム金属3Dプリンター JAM-5200EBM と造形物の実用例紹介

近年の製造業、特に航空宇宙分野では、複数部品の一体形成やパーツの軽量化など、より複雑なデザインの部品の製造が求められている。 その要求に応えるため開発されたJAM-5200EBMは、電子ビームを用いて粉体を溶融し任意形状のパーツを造形できる金属3Dプリンターであり、 パーツの自由度の向上に加え、開発・製造コストの削減や開発期間の短縮が見込める。本講演では本装置の特徴とアプリケーション、そして得られた造形物の実用例を紹介する。

日本電子株式会社
IS事ユニット
3D技術開発部 1T
柴田 皓平
15:45~16:45

高出力レーザー用光学薄膜の開発

レーザー装置には多くの光学部品(光学薄膜)が使用されている。高出力レーザーに曝された光学部品はしばしば損傷に至る。 光学部品が損傷すると、レーザー装置は所望の特性が得られなくなるため、光学部品のレーザー耐性(損傷しきい値)を把握し、しきい値以下の出力で装置を稼働する必要がある。 レーザー装置の高出力化に伴い、光学部品の高耐力化、長寿命化が望まれている。本講演では、高出力レーザー用光学薄膜に要求される条件、レーザー損傷の原因等について説明し、高耐力化を進める上での留意点等について紹介する。

公益財団法人レーザー技術総合研究所
室長・工博
本越 伸二 氏
16:55~18:05 懇親会
  • プログラムは変更させて頂く場合がございます。予めご了承頂きます様、お願い申し上げます。

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