半導体の材料開発･評価を支える最先端の質量分析技術 -フォトレジストポリマーの組成･構造解析から洗浄液中不純物検査まで-

公開日： 2026/05/12

微細化が進む半導体製造プロセスにおいては、材料由来のわずかな差異が性能や歩留まりに大きな影響を与えます。本ウェビナーでは、質量分析を用いたフォトレジストポリマーの組成・構造解析と、洗浄液中に含まれる微量不純物検査の分析事例を紹介します。またスペクトル解釈を可視化するケンドリックマスディフェクト（KMD）解析や､機械学習を用いたAI構造解析により、高度な分析を簡便に実現する分析フローについて解説します。

本セミナーは、WEB上で開催されます。WEBに接続できる環境であれば、パソコンからだけでなく、スマートフォンやタブレットからも参加することができます。皆さまのご参加をお待ちしております。

このウェビナーから学べること

フォトレジストポリマーの組成・構造解析における質量分析の活用法
洗浄液中の微量不純物を高感度に評価する分析手法
KMD解析やAI構造解析を用いた効率的な分析フロー

参加いただきたいお客様

半導体の材料開発・評価に携わる方
フォトレジストやプロセスケミカルの分析・品質管理を担当されている方
質量分析を用いた有機材料解析の効率化・高度化に関心のある方

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講演者	福留隆夫日本電子株式会社 SI事業部門 MS事業ユニット MSアプリケーショングループ
開催日	2026年7月10日(金) 16:00 ～ 17:00
参加費	無料 (先着順での受付となります。お早目にお申込みください。)
発表資料	講演後のアンケートにご記入いただくとダウンロードができます。
講演録画	後日講演録画をウェビナーアーカイブに掲載します。掲載の際はメールマガジンやSNSにてご案内をいたしますので登録/フォローをお願いします。
質疑応答	講演終了後に質疑応答の時間を設けています。ご質問のある方は参加登録フォームの事前質問欄にご記入いただくか、講演当日にZoomのQ&A機能をご利用ください。
お問い合せ	日本電子株式会社デマンド推進本部ウェビナー事務局 sales1[at]jeol.co.jp [at]は＠に、ご変更ください。