透過電子顕微鏡用の薄膜試料が簡便に作製できる画期的な装置です。
こちらの製品は販売終了しております。
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特長
厚さ100µmの試料から簡便な手順で電子顕微鏡用の薄膜試料が作製できます。
鏡面研磨やディンプルグラインダ処理をする必要がありません。
矩冊状に試料を加工するだけでイオン研磨処理が行えます。
柔らかい金属材料などでも歪が入りにくく、研磨時の破損も少ないので、効率よく試料作製が行えます。
硬度差の大きい試料や複合材料、脆い試料の薄膜作製も行えます。
種々の試料が容易に作製できます
セラミックの断面
チタンの断面
セラミックコンデンサの断面
仕様・オプション
| EM-09100IS | ||
|---|---|---|
| イオン加速電圧 | 1 ～ 8 kV | |
| 傾斜角 | 最大±6º(0.1ºステップ) | |
| ビーム径 | 500 μm (FWHM) | |
| エッチングレート | 5 μm/min (加速電圧:8 kV、Si換算) | |
| 使用ガス | アルゴンガス | |
| 試料サイズ | 2.8 mm (長さ) ×0.5 mm (幅) ×0.1 mm (厚さ) | |
| 圧力測定 | ペニング真空計 | |
| 主排気装置 | ターボ分子ポンプ | |
| CCDカメラ | 内蔵 | |
| 寸法・質量 | 本体 | 500 mm (W) ×600 mm (D) ×542 mm (H)、63kg |
| ロータリーポンプ | 150 mm (W) ×427 mm (D) ×230.5 mm (H)、16kg | |
| 液晶ディスプレイ | 326 mm (W) ×173 mm (D) ×380 mm (H)、3.7kg | |
設置条件
| EM-09100IS | |
|---|---|
| 電源 | 単相AC100～120 V±10%、50/60 Hz、500 ～ 600 VA |
| 接地端子 | D種接地 (100Ω以下) |
| アルゴンガス | 使用圧力：0.15±0.05 MPa (1.0 ～ 2.0 kg/cm2)
アルゴンガス使用流量：約0.2 ccm 純度：99.9999%以上 ホース接続口: JIS B0203 Rc 1/8
|
| 室温 | 20 ～ 25°C (変動: 1°C/h以内) |
| 湿度 | 60%以下 |
外観・仕様は改良のため予告なく変更することがあります。
装置設置用のテーブルをご準備下さい。
アプリケーション
EM-09100ISに関するアプリケーション
イオンスライサによる試料作製技術4:小さいサイズの試料作製法
イオンスライサによる試料作製技術2：半導体デバイスの試料作製
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