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TEM、SEMのための化学薬品を使わないコンパクトなイオンビームによるエッチングシステムです。
特長
広域で均一なエッチングおよびコーティングが可能です。
オイルフリーのクリーンな環境で試料処理が行えます。
サイドエントリー形TEM用試料ホルダも装着できます。
半導体関連の試料に特に威力を発揮
高域(約10mmφ)での均一なエッチング・コーティング
プラグ断面構造の剖出
薬品による危険性からの解放
試料処理時の汚染からの解放
仕様・オプション
イオン源 | ペニング銃 3 式 |
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イオンエネルギー | 1kV-10kV |
ガス | アルゴンガス 0.1ml/分/ガン |
ビーム径 | エッチング 最大 5mm(回転で約 10mm)、コーティング 最大 1mm |
イオン電流密度 | 10mA/cm2 イオン源当たり |
ドライポンプ | 60l/sec 分子ドラッグポンプ、2 段ダイアフラムポンプ |
真空度 | ベース真空度 6.6×10-4Pa、 使用真空度 8×10-3Pa |
真空計 | 冷陰極タイプ : 試料室 ソリッドステート検出器 ・ 背圧 |
試料室エアーロック | 試料交換時間 30 秒以下、ガタン ウイスパーロック |
コーティング速度 | カーボン : 約 0.05nm/秒、クローム : 約 0.15nm/秒 (於 10kV) |
エッチング速度 | 約 3μm/時 (於 タングステン 10kV) |
試料ホルダー | 水平プラットホーム、直径 36mm 試料搭載可能 |
試料回転 | 360° (10-60RPM) |
傾斜試料 | 固定角度 又はロッキング動作 ±45° |
ターゲットホルダー | ダブルフリップフロップターゲットセット 2 個(ユニットが真空の時、外部から選択可能)
使っていないターゲットはスパッタによるコンタミネーションから完全に遮蔽されています。 |
ターゲットマテリアル | 標準 : 炭素/クロム、金-パラジューム/タングステン 及び、炭素、クロム白金、金-パラジューム、金、イリジューム、タンタル、タングステンなどのターゲットが供給可能です。 |
電源 | 200W 100、120、230VAC 50/60Hz |
外形寸法 | 560mm(W)×480mm(D)×430mm(H)、平均出荷重量 38kg |
ガス | アルゴン、70 psi |