【販売終了】JPS-9200 光電子分光装置 (XPS)

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30µmφから3mmφまで、広い分析レンジをもつ汎用分析を目的とした高感度の光電子分光装置です。

特長

日本電子独自の電子光学技術を適用した高精度のイオンエッチング銃です。エッチングした領域が狭いため、同一試料での繰り返し測定が可能です。

X線をフォーカスするのではなく、検出領域を任意に可変できるため、試料ダメージを気にすることなく、微小領域から高領域までの汎用分析が可能となりました。

従来の波形分離方法はもちろんのこと、XPSとAESの標準スペクトルライブラリを利用した実スペクトルを用いた波形分離アルゴリズムを新たに組み込みました。これにより、オペレーターは経験を必要とする複雑なパラメータの設定作業から解放され、初心者でも複雑な化学結合状態解析が可能となりました。

スペクトルの分解能と強度
標準X線源 Ag3d5/2光電子ピーク、MgKα線で励起（300 W換算）分析径は、ナイフエッジをライン走査して16 %と84 %の強度を示す距離
分析径	0.9 eV	1.15 eV
マクロ	900,000 cps以上	1,800,000 cps以上
1mmφ	480,000 cps以上	900,000 cps以上
0.2mmφ	50,000 cps以上	100,000 cps以上
0.03mmφ	1,500 cps以上	3,000 cps以上
標準Ⅹ線源(Al-Mgツインターゲット) 最大負荷　Mg 500W, Al 600W 単色化X線源 Ag3d5/2光電子スペクトル、モノクロAlKα線で励起（600 W換算）
強度（cps）	100,000 cps 以上
分解能（eV）	0.65 eV
入射レンズ	視野制限及び角度制限絞り組込　磁界・電界形インプットレンズ
検出器	マルチチャンネルディテクタ
エネルギー掃引	0～1480 eV
CAE法	パスエネルギー　5～200 eV
CRR法	ΔE/E 　0.15～0.5 %
標準試料形状	10 mm × 10 mm、厚さ2 mm以内最大6個まで同時に装着可能分析位置は20点まで設定可能
大型試料の場合	最大90 mmφ、厚さ1.5 mm以内
試料移動範囲	X:0～50 mm、Y:0～18 mm、Z:-2～2 mm、T:-10～10°
排気系	自動排気ベークアウトシーケンス組み込み
主ポンプ	200L/sイオンポンプ
補助ポンプ	1600L/s サブリメーションポンプ
真空モニタ	ヌードイオンゲージ
ベークアウト機構	内部ヒータ組み込み
分析室真空到達度	7×10-8 Pa