スパッタイオンポンプ

sputter ion pump

[目次：真空系]

油を使用しないドライ真空系ポンプ。電界と磁界を利用して残留ガスを電離し、生じたイオンでチタンカソードを衝撃し、チタン原子をスパッタして、アノードなどの表面に新鮮なゲッタ膜(化学反応を起こして吸着させる膜)を生成させ、活性ガス(水素、酸素、一酸化炭素など)はゲッタ膜に吸着され、不活性ガス(ヘリウムなど)はイオンとしてカソードに吸着される。透過電子顕微鏡の電子銃室や鏡筒の高真空の排気に用いられる。使用圧力範囲は10^-4～10^-9Pa。

A dry vacuum pump that does not use oil. In the sputter ion pump, residual gasses are ionized utilizing electric and magnetic fields. The produced ions strike a titanium cathode to sputter titanium atoms. Then, the sputtered titanium atoms form a fresh getter film (film subjected to chemical adsorption). As a result, active gasses (hydrogen, oxygen, carbon monoxide, etc.) are adsorbed to the getter film, and inert gasses (helium, etc.) are ionized and adsorbed to the cathode. The pump is used for evacuation of the electron gun chamber and the column of TEM, which require high vacuum. The working pressure is 10^-4 to 10^-9 Pa.