マルチスライス法

multislice method

[目次：理論(電子の散乱／回折／結像)]

結晶に電子線が入射したとき結晶下面での透過波および回折波の強度を計算する手法の一つ。結晶を表面に平行で充分薄いスライスがたくさん積み重なったものとみなし、この結晶に入射した電子は最初のスライスで散乱され位相変化を受け、次のスライスまで伝播する。次々のスライスで散乱と伝播を繰り返して電子線が結晶の下面に到達するものとして、結晶下面での回折振幅(強度)を計算する。

A method for calculating the intensities of transmitted and diffracted waves at the bottom plane of a crystalline specimen when the incident electron beam interacts with the specimen. In the "multislice method," the specimen is assumed to be a stacking of many sufficiently-thin crystalline slices that are parallel to the specimen surface. Incoming electrons are regarded to be scattered by the first slice and undergo a phase change, then propagate down to the next slice. In this manner, the electrons are assumed to repeat scattering and propagation in the subsequent slices and reach the bottom plane of the specimen. Finally, the diffraction amplitudes (intensities) are calculated at this plane.

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