電子線描画

electron-beam lithography, EB lithography, EB writing

[目次：その他]

レジストを塗布した基板上に電子プローブを照射し、電子線損傷を利用して微細パターンを描く技術。パターンを描くためには、電子プローブをXY単独に走査する機能、ビームブランキング機能が必要である。電子プローブだけで描画できる領域は小さいので、大きなパターンを描くには試料ステージの移動も併用する。

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