回り込み

shadow-less deposition due to gas scattering

[目次：試料作製]

金属コーティングの際、蒸着粒子あるいはスパッタ粒子が残留ガスとの衝突によって散乱され、影になっているところにもある程度付着する現象。入り組んだ表面構造を持った試料の場合は、回り込みの善し悪しは重要であるが、コーティング膜の質は残留ガスが少ない方が良いので、兼ね合いが難しい。このような場合、回り込みが良いスパッタコーティングであっても、試料の回転傾斜機構やジンバル機構を併用することで、一様なコーティングと膜質を両立させる場合がある。

関連用語から探す