オスミウム・プラズマコーター OPC-EVOは、「直流グロー放電による負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた、主にSEM試料用の導電性薄膜作製装置です。
特許取得済みの直流プラズマCVD法 (負グロー相領域内での製膜) により、導電性のオスミウム薄膜を製膜できます。新しく搭載されたタッチパネルによるユーザーフレンドリーで直感的な操作性を実現しました。初めて操作される方でも、安全かつ簡単にご使用頂くことが出来ます。
特長
EVOに搭載された新機能
タッチパネルにより直感的な操作性を実現。日本語、英語に対応したタッチパネルではサンプルの設置方法やオスミウム昇華室の取り付け/取り外し方法、終了作業の手順などの操作方法が説明されます。
また、オイル、フィルターの交換時期等メンテナンス情報もお知らせいたします。標準で超薄膜製膜機構 (0.5 nm～の再現性の良い製膜を実現、特許取得技術) を搭載。
膜厚を設定してスタートするだけの自動操作
※自動操作は通常モード (3 nm以上) の場合に使用可能です。超薄膜製膜機構を使用する際は、一部マニュアル調整が必要となります。積層モード搭載：製膜の反復設定が可能。繰り返し回数を指定するだけで最大100 nmの製膜が自動で可能です。
パスワード設定により使用者を制限することで、セキュリティを強化します。
標準で親水化処理機構 (より密着性の高いオスミウム薄膜を製膜可能) を搭載。
仕様・オプション
本体
| タイプ | オスミウム膜専用タイプ (タッチパネル式) |
|---|---|
| 型式 | OPC-EVO |
| ガス反応容器 | ガラス容器120 (φ) × 73 (H) mm |
| 最大試料寸法 | 33 (W) × 33 (D) × 4 (H) mm 又は、36 (φ) × 14 (H) mm |
| SEM試料台設置数 | 10 mm φ × 7個 又は、15 mm φ × 4個 又は、36 mmφ × 1個 |
| 生成膜厚 | 超薄膜モード：0.1 nm〜、通常モード：1 nm〜 |
| 生成膜 | 0.5 nm ～ 数100 nm |
| 最小膜厚設定 | 超薄膜モード：0.1 nm～、通常モード：1 nm～ |
| 生成膜 | オスミウム超薄膜 / オスミウム薄膜 |
| ガス導入方式 | 四酸化オスミウム結晶 又は、ナフタレン結晶を専用昇華室で昇華させて導入 |
| 四酸化オスミウム昇華室 | 昇華室内の四酸化オスミウム残量を確認可能な窓付き 密封状態での取り付け/取り外しが可能 (取り外し後は、昇華室のまま冷凍保存が可能) |
| ガス導入方式 | 四酸化オスミウム結晶を専用昇華室で昇華させて導入 |
| 電源 | 単相 AC 100 V 50/60 Hz 10 A (ロータリーポンプの供給電源を含む) |
| 外形寸法 | 400 (W) × 350 (D) × 330 (H) mm 凸部除く |
| 質量 | 約20 kg |
ロータリーポンプ (OsO4フィルター付)
| 型式 | OPC-EVO-RP |
|---|---|
| 電源 | AC 100 V 50 Hz(60 Hz) 200 W |
| 全負荷電流 | 単相 5.6 A (4.8 A) |
| 排気速度 | 50 L (60 L) / min |
| 外形寸法 | 170 (W) × 400 (L) × 580 (H) mm |
| 質量 | 約18 kg |
オプション
オスミウム昇華室 OPC-ORV (標準で本体に1つ付属)
四酸化オスミウムアンプル
昇華室輸送容器 RVT-1
Oリング専用真空グリース (0.5 ml) VS-GR
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