特長
高い描画精度と高いスループットを両立
安定性を追求した電子光学系
最大300 mm ウエハー対応
300 mm ウエハーFOUP への対応が可能
自動現像機など他の製品とインライン化が可能
弊社従来機種に比べ低電力
誰でも使いこなせる操作性
アプリケーション例
DFBレーザー / ナノインプリント
メタレンズ
レンズアレー
T-Gate
フォトニック結晶
仕様・オプション
| 項目 | 仕様 |
|---|---|
| 加速電圧 | 100 kV |
| フィールドサイズ | 1000 μm |
| 最小インクリメント | 0.25 nm |
| フィールド接合精度 | ±9 nm |
| 重ね合わせ精度 | ±9 nm |
| 最小線幅 | ≦8 nm |
| ビーム電流 | 50 pA ～ 400 nA |
| 走査スピード | 200 MHz (最大) |
| ステージ位置読み取り分解能 | 0.15 nm |
| 収差補正 | 偏向焦点 偏向非点 偏向歪 |
| 最大材料サイズ | 300 mm ウエハー 9型 (インチ)マスク |
| 消費電力 | 通常時5 kVA |
| 標準フットプリント | 7.4 m × 5.3 m × 2.7 m (H) |
| 構成 (一部抜粋) |
|---|
| 描画装置基本体 |
| 10枚カセット搬送システム |
| 制御CPUシステム |
| 制御プログラム |
| データ準備プログラム |
| オプション (一部抜粋) |
|---|
| 光学顕微鏡 |
| ウエハー搬送システム (300 mm ウエハーFOUP 対応) |
| ウエハー搬送システム (200 mm ウエハー対応) |
| 48 kV 高電圧印加プログラム |
| 各種カセット |
| SECS/GEM 通信対応 |
* 他のグレードモデルもご用意いたしております。お気軽にお問い合わせください。
カタログダウンロード
アプリケーション
ギャラリー
