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高周波誘導により約1万度の熱プラズマを発生させ、物理的/化学反応的プロセスにより、球状化、ナノ粒子合成や厚膜合成が行えます。

特長

原理・特長

高周波誘導熱プラズマは、大気圧もしくは大気圧に近い減圧雰囲気において、高周波電力を局所的に集中させ、様々なガスを電磁誘導により瞬時に約1万度の超高温プラズマ状態に変えたものです。

この熱プラズマはアーク放電の領域に属し、このプラズマ中に原料(粉体・ガス・液体)を導入し、蒸発・溶融・分解・化学反応等により、ナノ粒子の合成や反応、微粉末の改質や球状化、成膜、有害ガスの分解などを行う事ができます。(プラズマプロセッシング)

高周波誘導熱プラズマの発生原理

水冷管の外側に誘導コイルを巻き、水冷管の中へアルゴンガスを供給します。誘導コイルへ高周波電力を流し、アルゴンガスにコロナ放電のトリガーを加えると、アルゴンガスが励起し熱プラズマが発生します。

  • 数kPa以下の減圧下ではトリガーが無くても放電します。

ナノ粒子の合成原理

微粒子等の原料を熱プラズマ中へ供給すると、瞬時に蒸発・ガス化されます。プラズマの中心から尾炎部にかけて千℃単位で温度が下がりますが、その中を約10~20m/secで通過し、蒸発した原料が急冷され核生成・凝縮が行われて、ナノ粒子が生成されます。

特長

超高温のため、沸点の異なる異種原料でも、瞬間的にその場でフラッシュ蒸発させる事ができます。
無電極のため、原料成分のまま蒸発または溶融することができます。
高純度の材料合成が可能です。
様々なガスをプラズマ化することができ、高ラジカルの反応場で、酸化 / 還元 / 窒化 / 炭化などの化学反応や改質が可能です。
プラズマの超高温領域を通過後は急激に冷却されます。(超急冷プロセスにおける核生成・凝縮)
直流熱プラズマ(DCアーク放電)と比較して、大きなプラズマフレームが得られます。
さらにプラズマの流速は直流熱プラズマと比較して一桁遅いため、原料を十分に加熱・反応させることができます。

機器概要

高周波電源

高周波誘導熱プラズマの負荷に最適なマッチング回路や制御性を備え、十分な異常放電対策や業界屈指の電源効率を有しています。

プラズマトーチ

各出力の高周波電源に対して専用のプラズマトーチが用意されています。

プラズマ密度の高いトーチ径及び構造
水冷 2 重管構造で、内管は石英管と比べ耐久性の高いセラミックス管 (特許取得済) を使用し、
減圧~大気圧まで長時間安定した運転が可能

用途例

アプリケーション例

Ti-6AI-4V 粒子(D50=90μm)

金属工業研究発展中心(蔡孟修博士)との共同研究成果

Wタングステン粒子(約20-50μm)

Mo モリブデン粒子(約100μm)

ナノ粒子合成

金属やセラミックスを問わず、 約1~数10μmの微粒子を、 熱プラズマ中で蒸発させナノ粒子を合成。微粒子のナノサイズ化だけでなく、混合粉末からの多元系ナノ粒子の合成も可能です。O2・H2・N2 等のガスを用い、酸化・還元・窒化など様々な化学反応も同時に行えます。

多元系ナノ粒子合成

層状岩塩型Li-Mn- Ni複合酸化物ナノ粒子Li2CO3(3.5μm)/Mn(10μm)/Ni(3~5μm)の混合粉末から合成

コアシェル合成

リチウムイオン電池負極材料向けに、 コアがシリコン、シェルがSiOまたはカーボンのコアシェルナノ粒子を合成できます。

アプリケーション

TP_seriesに関するアプリケーション

ギャラリー

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