VACUUM2026 真空展

「VACUUM2026真空展」は今年で48回目を迎える真空機器・真空装置の総合展示会です。技術開発・製品製造・販売など真空技術に関わる企業、研究者の方々が毎年多数来場し、ビジネスに直結する数多くの商談が行われております。弊社は、高機能光学薄膜の成膜に最適な電子銃・電源、ボンバード蒸着源、反射電子トラップ、プラズマソースを出展いたします。皆様のご来場を心よりお待ちしております。

展示内容

BS-60610BDS ボンバード蒸着源

電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。
低ダメージ、低欠陥、低吸収、厚膜、ハイレートの成膜に適しています。
従来機種（BS-60310BDS）の特長を継承し、ライナー大容量化とハイレート化を実現しています。

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BS-60310BDS ボンバード蒸着源

低ダメージ、低欠陥、低融点材蒸着用途向けに開発した、電子ビーム間接加熱式蒸発源 です。従来の電子銃と比較して、基板へのＸ線影響、反射電子影響が、大幅に低減されています。
有機EL用電極膜の蒸着に適しています。電子ビームによる間接加熱方式を採用する事により、蒸着材料の急激な温度上昇が 抑えられる為、スプラッシュの発生が従来の電子銃と比較して、大幅に抑制され、低欠陥MgF2光学膜、撥油・撥水膜の蒸着に適しています。 リボルバ式蒸着材料交換機構により、多層蒸着や厚膜蒸着も可能です。

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BS-60250DEM 電子銃

ハイレート金属蒸着用に開発した新型電子銃です。
最大出力16kW(10kV-1.6A)に対応し、金属膜の高速蒸着を実現します。
φ50mmルツボに標準対応し、オプションでφ70mmルツボにも対応できます。
スキャン性能の向上により均一な蒸発面を実現し、酸化物蒸着にも対応可能です。

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BS-60060DEBS / BS-60070DEBS 270° 偏向型電子銃

酸化物蒸着に有効です。安定した成膜ができます。
JEBG-102UH0 電子銃と形状互換です。
従来よりフィラメント寿命がさらに長寿命化しました。
クリーニングしやすい形状で、メンテナンス性が良好です。

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BS-80020CPPS プラズマソース

低温プロセス用のプラズマソースです。
プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。
無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます。
基板近傍のイオンアシスト効果も付加され、さらに蒸着材料によってはARE（活性化反応蒸着）効果が期待できます。 既設の真空チャンバーへ後付けすることもできます。

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