研究開発用電子ビーム蒸着装置のご紹介

公開日： 2026/08/06

当社では、主に研究開発用途向けの小型電子ビーム蒸着装置を取り扱っております。
電子ビーム蒸着法では、蒸着材料に電子ビームが照射される際に発生する反射電子によって基板ダメージや昇温が生じ、膜質に悪影響を及ぼすことがあります。
反射電子対策として、基板に到達する反射電子を抑え、膜質を向上させる各種製品も取り扱っております。
本セミナーでは、電子ビーム間接加熱法を用いた新しい蒸着源である『ボンバード蒸着源』、ならびに電子ビーム蒸着法で反射電子影響を抑える『反射電子トラップ』とそれらを用いた電子ビーム蒸着装置をご紹介いたします。

本セミナーは、WEB上で開催されます。WEBに接続できる環境であれば、パソコンからだけでなく、スマートフォンやタブレットからも参加することができます。皆さまのご参加をお待ちしております。

このウェビナーから学べること

当社製電子ビーム蒸着装置の特長
反射電子影響を抑えた低ダメージ・低温成膜方法
電子ビーム間接加熱によるボンバード蒸着源の特長と成膜事例

参加いただきたいお客様

薄膜形成 (真空蒸着) をされている方
各種電子デバイス/MEMS等の電極膜の成膜をご希望の方
装置1台で金属/酸化物/フッ化物/有機材など様々な材料の成膜をご希望の方

関連製品

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反射電子トラップ

BS-60310BDS ボンバード蒸着源

BS-60610BDS ボンバード蒸着源

講演者	菅原康司日本電子株式会社 IS事業ユニット IE技術開発部
開催日	2026年9月14日(月) 16:00 ～ 17:00
参加費	無料 (先着順での受付となります。お早目にお申込みください。)
発表資料	講演後のアンケートにご記入いただくとダウンロードができます。
講演録画	後日講演録画をウェビナ－アーカイブに掲載します。掲載の際はメールマガジンやSNSにてご案内をいたしますので登録/フォローをお願いします。
質疑応答	講演終了後に質疑応答の時間を設けています。ご質問のある方は参加登録フォームの事前質問欄にご記入いただくか、講演当日にZoomのQ&A機能をご利用ください。
お問い合せ	日本電子株式会社デマンド推進本部ウェビナー事務局 sales1[at]jeol.co.jp [at]は＠に、ご変更ください。