イオンエッチング

ion etching

[目次：試料等(試料および試料作製)]

試料にイオンビームを照射して、格子欠陥のあるところの原子や特定の原子を選択的に取り除く方法。試料表面の組織観察に使われる。TEM用の試料作製のために、選択的でない一様な薄膜化に用いられている手法はイオンミリングである。イオンミリングとイオンエッチングは混同して用いられていることがある。

"Ion etching" is a technique to selectively remove specific atoms and the atoms at lattice defects. This technique is used for observation of textures on a specimen surface. A technique of uniform and nonselective thinning for specimen preparation of TEM is ion milling. Sometimes, ion etching is confused with ion milling.

関連用語から探す