イオンスパッタリング

ion sputtering

[目次：試料等(試料および試料作製)]

イオン化して加速した原子や分子を固体表面に衝突させることにより、固体表面から原子が飛び出してくる現象のこと。成膜(固体表面上への薄膜の形成)や、試料のコーティング、イオンエッチングに用いられる。試料のコーティングの場合には、低真空中または真空にアルゴンガスを導入して放電させ、電界をかけて加速したイオンを陰極側の金や白金のターゲットに衝突させ、放出される原子を陽極側の試料に付着させ、コーティングする。

"Ion sputtering" is a phenomenon where atoms are sputtered from a solid surface when ionized and accelerated atoms or molecules hit the solid surface. This phenomenon is utilized for formation of a thin film on a solid surface, specimen coating and ion etching. In the case of specimen coating, discharge is generated in a low vacuum or in an Ar gas environment under a vacuum, the ionized gas is accelerated and hits a target material (Au, Pt, etc.) at the anode. Then, the material is emitted from the target surface and deposit on a specimen at the cathode, specimen being coated.

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