測長SEM

critical dimension SEM, CD-SEM

[目次：装置]

SEMの持つ、観察、分析、測長などの機能の内、測長機能に特化して作り上げられた装置。とくに半導体の製造ラインでプロセスの寸法管理に用いられ、数百nm幅のパターン幅の自動測定を行う。非導電性試料を扱うことになるので1kV以下の低加速電圧が使われるが、これにより試料の損傷も防いでいる。パターンのエッジを自動的に検出して測定を行うが、測定精度を上げるために、標準マイクロスケールといった倍率標準試料を用いて較正を行う。

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