冷却ミリング対応！最新型クロスセクションポリッシャ™のご紹介
公開日： 2026/06/10
SEM観察において試料作製、特に断面出しは観察結果を大きく左右する重要な要素です。適切な断面出しを行うことで、より高精細かつ信頼性の高いSEM像の取得が可能となります。
本発表では昨年度リリースしました最新型クロスセクションポリッシャ™(CP)の特長をご紹介するとともに、新たに対応可能となった冷却ミリング機能、位置合わせ顕微鏡などのオプションをご紹介いたします。
装置導入をご検討中の方はもちろん、既に活用されている方にも有益な内容となっております。
本セミナーは、WEB上で視聴期間限定のオンデマンド形式で開催いたします。視聴期間内であればお客様のご都合に合わせていつでもどこでもご視聴いただけます。皆さまのご参加をお待ちしております。
このウェビナーから学べること
新型CPについて
CPのオプションについて
CPの活用事例
参加いただきたいお客様
SEMの前処理装置に興味のある方
これからCPを検討されている方
既にCPを活用中の方
関連製品
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講演者 |
久保 幸豊 日本電子株式会社 
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開催日 |
2026年7月8日(水) ～ 7月10日(金) |
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参加費 |
無料 |
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発表資料 |
発表資料の配布は行いません。 |
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講演録画 |
後日講演録画をウェビナ－アーカイブに掲載します。 |
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質疑応答 |
講演終了後の質疑応答は行いません。 |
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お問い合せ |
日本電子株式会社
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お申し込み方法
下記よりお申し込みください。
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お申し込みいただいた方には、開催日のおおよそ前週末を目安に、動画視聴ページのご案内をお送りいたします。ご案内までお待ちくださいますようお願い申し上げます。
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