エピタキシ
エピタキシ
epitaxy
[目次:試料等(試料および試料作製)]
結晶基板上に、真空蒸着法や化学的気相成長法(CVD)などを用いて、基板に用いられる結晶と特定の方位関係にある結晶膜を堆積成長させる結晶膜成長法のこと。
"Epitaxy" is a technique to deposit and grow a crystalline film on a crystalline substrate using vacuum evaporation (deposition) or chemical vapor deposition (CVD), etc. In epitaxy, the crystalline film formed has a specific orientation relation with the substrate crystal.
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