ジェントルミリング

gentle milling

[目次：試料等(試料および試料作製)]

集束イオンビーム法や通常のイオンミリングによって作られた試料の表面は損傷を受けていることが多い。損傷層を取り除くために100V～2kVの低加速のアルゴンイオンで穏やかにイオンミリングすること。

A surface of a specimen milled by the focused ion beam (FIB) technique or a normal ion milling technique is likely to suffer damage. To remove the damaged layers on the specimen surface, an argon ion beam at a low accelerating voltage of 100 V to 2 kV is used to gently mill the specimen surface. This technique is termed "gentle milling."

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