イオンビームスパッタ装置
イオンビームスパッタ装置
ion-beam sputter coater
[目次:試料作製]
ペニング形イオン銃から放出されたブロードイオンビームをターゲットに照射し、スパッタされた金属を試料にコーティングする装置。ターゲットと試料は高真空中に置かれるため、均一なコーティング膜を作るには、試料の回転傾斜機構かジンバル機構が必要である。通常のスパッタ装置と違って、タングステン、クロムといった酸化しやすい金属のスパッタができるほか、スパッタ速度の制御も比較的容易である。
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