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表面分析

表面分析とは

表面分析とは、材料の表層 (数nm〜数μm) に存在する元素組成や化学状態、微細構造などを明らかにするための分析技術です。腐食、摩耗、接着、反応など、製品の性能や信頼性に直結する現象は、主に表面で起こるため、表面分析は材料評価や品質保証、不具合解析において非常に重要な役割を果たします。

分析を行う際は、サンプルの状態(対象箇所・大きさ・材質など)や分析目的に応じて、最適な手法を選定する必要があります。

知りたい情報は何?サンプルの材質は?知りたい情報の範囲は?深さは?
水に溶ける?溶剤に反応する?前処理が必要?

下矢印

目的にあった分析手法の選択が大切

励起源と検出信号

表面分析装置の種類と特徴

以下の図では、代表的な表面分析手法について、励起源や検出信号、定量性、化学状態の分析可否、感度、絶縁体対応、深さ方向の分析能力など、さまざまな観点から一覧で比較しています。各手法の特性を理解し、目的に応じた分析手法を的確に選択することが大切です。

分析手法 EPMA (WDS)/SXES/EDS AES XPS XRF SIMS
励起源 電子線 電子線 X線 X線 イオン
信号 特性X線 オージェ電子 光電子 蛍光X線 二次イオン
検出元素 Be ~ (WDS、EDS)
Li (SXES、Windowless EDS)
Li ~ Li ~ C ~ H~
定量分析 ×
化学状態 × 有機化合物
検出深さ 数µm 数nm 数nm 数mm 数nm
感度 数十ppm
(質量濃度)
数千ppm
(原子濃度)
数千ppm
(原子濃度)
数十ppm
(質量濃度)
数ppm
(原子濃度)
絶縁物 ○ (導電処理)
深さ分析 ×
得意 定性分析
定量分析
広範囲~微小領域分析
微小領域分析
化学結合状態分析
深さ方向分析
絶縁物分析
化学結合状態分析
深さ方向分析
定性分析
薄膜分析
微量元素分析
有機物分析
微量元素分析
苦手 化学結合状態分析
(SXESは得意)
有機物分析
広範囲分析
絶縁物分析
有機物分析
微小領域分析
微量元素分析
微小領域分析 定性分析
定量分析

本記事では、日本電子が提供する表面分析装置、XPS (光電子分光装置)、AES (オージェ電子分光装置)、XRF (蛍光X線分析装置)、EPMA (電子プローブマイクロアナライザー) ※波長分散型X線分析 (WDS) を標準搭載、SEM+EDS (走査電子顕微鏡+エネルギー分散型X線分析)、EPMA(WDS)とSEMに搭載出来るSXES(軟X線発光分光器)を取り上げ、それぞれの仕組みや得意・不得意な分析領域、装置選定のポイントなどをわかりやすく解説します。

日本電子の表面分析装置

JPS-9030 光電子分光装置 (XPS)

JAMP-9510F フィールドエミッション オージェマイクロプローブ

JXA-iHP200F フィールドエミッション 電子プローブマイクロアナライザー (FE-EPMA)

JSX-1000S エネルギー分散形蛍光X線分析装置 (XRF)

表面分析装置ごとの分析面積・深さの違い

最も深く、広い範囲の元素分析が可能なのはXRFです。バルク材料全体の平均的な組成を把握するのに適しており、広い視野での定性・定量分析に活用されます。

一方、SEM+EDSやEPMA (WDS) は、数マイクロメートル程度の局所領域で発生するX線を検出することで、局所的な元素分布を調べることができます。SEM+EDSは形態観察と元素分析の同時評価、EPMA (WDS) はより高精度な定量分析と面分析に優れています。また、SXESを用いることで化学状態分析が可能です。日本電子のEPMA(WDS)には、EDSとSXESが搭載できることから、多元素の同時分析と微量元素分析、状態分析を同軸上で行うことが出来ます。

SXES(Soft X-Ray Emission Spectrometer)軟X線発光分光器

SXESは専用設計された回折格子とCCDカメラを用いることで、高感度・高エネルギー分解能でスペクトルが取得可能です。Li,Bといった軽元素から遷移金属などの化学結合状態に関する分析ができます。

さらに、AESやXPSは、深さ数ナノメートルという極めて浅い表面層からの信号を取得できるため、表面処理や汚染、酸化状態など、表層の化学状態の評価に最適です。

このように、数ナノメートルの極表面を調べたい場合はAESやXPS、数ミクロン程度の局所分析にはSEM+EDSやEPMA (WDS)/SXES、ミリメートルオーダーの広範囲を対象とする場合はXRFが適切です。分析深さや分析視野の大きさに応じて、選択すべき装置は異なります。

分析深さ・分析面積図

表面分析装置の原理と検出信号の違い

下図に示すように、各装置は励起源 (入射プローブ) と検出信号が異なり、それぞれの特性に応じて得られる情報も変わります。

XRF
EPMA (WDS)
XPS
AES

各装置の原理については、以下もご確認ください。

表面分析手法の選定ポイント

表面分析では、試料の性質や目的に応じて適切な手法を選ぶことが重要です。
たとえば、生物試料や液体試料など真空に弱い試料には、大気圧下で測定可能なXRFや低真空モードを備えたSEMが有効です。真空環境に耐えられる試料であれば、XPSやAES、EPMA (WDS)/SXES など、より高感度・高分解能な手法も選択肢に加えることができます。
本セクションでは、目的別に最適な分析手法を図とともに紹介します。

定性・定量分析

面分析

状態分析

表面分析事例

XPS、AES、EPMA (WDS)/SXES、SEMなどの表面分析装置を用いた具体的な活用事例をご紹介します。

XPS

AES

EPMA (WDS)

EPMA(WDS)/SXES

EPMA-軟X線発光分光法による - ステンレス材料表面の不動態皮膜の解析

SEM

AES / XPS

SEM / AES

まとめ

表面分析は、製品の性能や信頼性に直結する重要な情報を得るための技術です。
本記事では、代表的な分析手法の特徴や選定ポイント、装置ごとの得意分野、そして具体的な活用事例を通じて、装置選びのヒントをご紹介しました。
日本電子では、初心者から専門研究者まで幅広いニーズに対応する装置を取り揃えており、導入前のご相談から運用サポートまで、安心してご活用いただけます。
表面分析に関するご質問や装置選定のご相談は、ぜひお気軽にお問い合わせください。

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JPS-9030 光電子分光装置

JPS-9030 光電子分光装置

JAMP-9510F フィールドエミッションオージェマイクロプローブ

JAMP-9510F フィールドエミッションオージェマイクロプローブ

JXA-iHP200F ショットキー形電子プローブマイクロアナライザ JXA-iSP100 タングステン/LaB<sub>6</sub>電子プローブマイクロアナライザ

JXA-iHP200F ショットキー形電子プローブマイクロアナライザ
JXA-iSP100 タングステン/LaB6電子プローブマイクロアナライザ

JSX-1000S エネルギー分散形蛍光X線分析装置(XRF)

JSX-1000S エネルギー分散形蛍光X線分析装置(XRF)

日本電子株式会社

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